X射线荧光分析中的样品制备技术.ppt

矿石分析 低稀释率－玻璃熔片法 铁矿石应用实例 李升，李锦光。光谱实验室。 1999，16（4）：345--347 AAG50 熔样机 1050~1100℃ 熔融 10 min 浇铸 （800 ℃ 铸模） 稀释比＝1 : 2 目的：降低痕量元素的检出限 X射线荧光光谱法测定锰矿石*、钒钛铁矿石**成分 * 蒋薇,刘伟. 冶金标准化与质量. 2006. 44：10--12 1号瓷坩埚：0.6000 g 样品＋0.6000 g 钴内标＋1 g LiNO3 2号瓷坩埚：8.0000 g Li2B4O7高纯熔剂 ＋ 混匀 Pt－Au坩埚 加入25滴0.4g/mL LiBr FLUXY 10 熔融炉 浇铸成片 矿石分析 玻璃熔片－内标法 锰矿石 ** 蒋薇. X射线荧光光谱法测定钒钛磁铁矿成分,光谱实验室. 2005. 22(5):40--942 络合-缓冲溶液: 50g/ L 柠檬酸钠-20g/L EDTA 混合液 铅锌矿应用实例 0.2000g铅锌矿＋（HCl＋HNO3） ～1 mL残余液 5mL 10g/ L Co 内标 消解、蒸干 低温蒸干 ～0.5 mL残余液 20mL 络合-缓冲液 加热溶解 络合-缓冲液定容至50 mL 分取20 mL＋ 0.3 g 琼脂糖 煮沸、溶解、混匀 转入样品杯、固化、测量 符斌等. 冶金分析. 2002. 22（5）：6-9 矿石分析 强酸消解－凝胶制样法 直接粉末法 样品一般要碎至20--100微米粒度。 优点：制样简单，没有污染，测量过的样品还可用于其它分析。 缺点： 受粒度和矿物效应的影响明显，通常分析的精密度和准确度较差，应用较少。 高分子膜对长波长X射线的吸收很明显，轻元素的灵敏度大幅度下降。 用于定量分析时，要对制样的再现性进行测试。 该法更适合于下照射型的仪器。 直接粉末法 透过率 波长 ? 各种高分子膜的X射线透过率 A：1.5 um超聚酯；B：4 um聚丙烯纤维；C：2.5 um聚酯 D：6 um聚丙烯；E：5 um聚碳酸酯；F：6 um聚酯； G：6 um聚酯*；H：7.5 um聚酰亚胺 直接粉末法—样品量对结果的影响 Ti 直接粉末法—样品量对结果的影响 直接粉末法—样品量对结果的影响 直接粉末法—制样精度 直接粉末法—制样精度 液体样品 直接分析 点滴滤纸片法 沉淀、共沉淀法 准固体法－形成胶体 TXRF的富集技术 TXRF法主要用来监控硅片中的杂质，该法还可以用来判断污染的类型：尘埃型、薄膜型、整体型[D18]。 新问题：随着对半导体表面污染的要求越来越严,在某些尖端领域，用TXRF法直接分析表面时，达不到要求的检出限。另外，由于直接法的分析面积小，难以对整个表面实时测定。 对策：VPD-TXRF技术，即将表面的金属污染物溶解成小的液滴，使其在原表面干燥或转移到另外的载样片上进行TXRF测量，求得整个表面的可溶杂质的平均含量。 效果：检出限可达107~108原子/cm2。用特殊的设备，轻元素（Na、Al等）的检出限可达109~1010原子/cm2。这种VPD-TXRF法是目前半导体工业的首选方法。 其他类型样品 排 布 平 整 直接 测 量 直 接 热 压 冷冻粉碎＋直接粉末 冷冻粉碎＋热压 低 分析精度 高 制样手续 标准 简单 分析精度与制样方法的关系（电线外皮） 塑料样品分析 样品制备与校准方法相关--Pb 校准样品：规则片状 分析样品：不规则颗粒 Thank you ! X射线荧光分析中的样品制备技术 X R F 技 术 现 状 完整的分析技术族 实验室型 WDXRF、EDXRF 携带式P-XRF XRFM、SR-XRFM TXRF PIXE 、μ-PIXE EMP XANES 完备的分析功能 全元素（Be?U） 全含量（ng/g?100%） 全面积（μm2?块体） 多层次（表面?多层膜） 多形态（固、液、气、其它） 多目标（含量、分布、膜厚、价态）。 多场所 …… 制样简单，无环境污染 常规X射线荧光光谱仪可以直接分析卤水等液体样品 P-XRF光谱仪可以在野外现场进行原位分析 TXRF光谱仪可以直接分析硅片上的杂质元素 SR-XRFM可以直接分析单根毛发中的微量元素 ……… 存在元素间吸收增强效应 属于表面—近表面分析技术，受样品厚度影响 X 射线荧光分析--特点 整体分析样品制备 定量、半定量和定性分析对样品制备的要求有很大差别 定性分析中，样品制备主要是在避免样品污染的前提下，使样品转化成可以放入光谱仪测量的形式。 而定量分析，特别是主成分元素的高精度定量分析，则必须使样品转化为整体均匀、表面平整光滑、（通常情况下）相对于被测最短波长为无限厚、可重复地放入光谱仪测量的形态、形状和尺寸，有时还需要加入内标元