采购标的规范.docVIP

國家奈米元件實驗室 NATIONAL NANO DEVICE LABORATORIES print 招標案號：NDL-P-101220 頁 數 ： PAGE7 OF NUMPAGES 7 購案名稱：廢氣處理器 本文件為國家奈米元件實驗室專有之財產,非由書面許可,不准透露或使用本文件,亦不准複製或轉變成任何其他形式使用 THE INFORMATION CONTAINED HERE IN IS THE EXCLUSIVE PROPERTY OF NATIONAL NANO DEVICE LABORATORIES. AND SHALL NOT BE DISTRIBUTED THE REPRODUCED, OR DISCLOSED IN WHOLE OR IN PART WITHOUT PRIOR PERMISSION OF NATIONAL NANO DEVICE LABORATORIES. 國家奈米元件實驗室 廢氣處理器 招標規範書 目錄 頁次 TOC \o 1-1 1 說明 3 2 採購標的規範 3 3 未來擴充情形 6 4 審查文件 6 5 履約期限 6 6 驗收標準 6 7 保固 7 8 其他 7 說明 本規範適用於國家奈米元件實驗室奈米廢氣處理系統擴充之廢氣處理器採購規範，採購內容包括廢氣處理器相關規範，本規範如有任何疑慮請洽本實驗室。 採購標的規範 採購標的及數量：廢氣處理器壹台 可能處理氣體包含：氫氣、甲烷、磷化氫、氯氣、溴化氫、一氧化二碳、矽甲烷、矽乙烷、鍺烷、氨氣、三氯化硼、二硼烷……等，半導體、光電廠製程所使用的各類酸性、鹼性、可燃性、強氧化性及毒性氣體。不包含氟氯碳化物等惰性氣體。(四氟化碳、三氟甲烷、六氟乙烷、八氟環丁烷……等) 製程尾氣將個別或同時排放。 廢氣處理器處理原理與各項需求 處理原理為乾濕混合處理(高溫燃燒後再水洗)，燃燒室在進氣180slm以上(含自身稀釋及助燃之N2、CDA)，再以電熱方式能加熱至800℃以上。 廢氣處理器去除率： 酸性廢氣於濃度30％(300000ppm)以下，去除率＞99％且不得＞10 ppm。 鹼性廢氣於濃度15％(150000ppm)以下，去除率＞99％且不得＞10 ppm。 酸、鹼性廢氣須於相同操作條件下(2.2.1)進行檢測。 廢氣處理器出口廢氣溫度於2.2.1之情況下，不得高於45℃ 廢氣風管負壓最高可能達到-180mm水柱，在此負壓情況下設備仍能順利排水。 水洗裝置：本體及拉西環材質為SUS304以上等級不鏽鋼，除加熱燃燒高溫零件外，其餘廢氣管道之內壁皆需coating鐵氟龍(請檢附管路塗裝證明)。洗滌水可為內部循環。洗滌水於內部循環時需將粉塵沉澱功能，繼續循環使用，並可切換外部循環。 洗滌水可為內部循環及2.2.1之情況下，洗滌水溫過高時需自動換水降溫，不得以外部熱交換方式進行(PCW冷卻)。 需有設備局部抽氣口與風門(熱排氣)。 需擁有三個以上廢氣進口，尺寸為KF50。 三個廢氣進口，需於進入燃燒室後才能形成通路(不得以開三通方式改造)。預防不相容氣體於管路內混合。 廢氣處理器控制 燃燒室溫度控制，溫度異常時(高於或低於設定溫度)需有警報及燈號，並有信號接點一組。 稀釋及緩衝用氮氣流量控制，採浮子流量計。 最大助燃空氣 (CDA) 流量控制，採浮子流量計。 洗滌水流量控制，採浮子流量計。 各類(壓差警報、溫度、洗滌水壓力不足、洗滌水溫度、洗滌水液位、氮氣、CDA、排水異常、漏水)等異常信號警報，均能現場顯示，以及能連接至本實驗室監控室顯示盤，與監視系統同時顯示。 廢氣處理器警報與安全連動 人機界面顯示功能 所有警報及異常情況須顯示在人機界面 人機界面需包含異常復歸及歷史紀錄 負壓不足警報：負壓低於警報設定點下限啟動聲響與燈號。 溫度異常警報 低於設定溫度：啟動聲響與燈號並繼續加熱。 高於設定溫度：啟動聲響與燈號並停止加熱。 洗滌水壓力不足警報：啟動聲響與燈號並停止加熱。 氮氣流量或壓力不足警報：啟動聲響與燈號並停止加熱。 CDA流量或壓力不足警報：啟動聲響與燈號並停止加熱。 洗滌水溫度過高警報：啟動聲響與燈號排放洗滌水槽，並補充(更換)洗滌水。 洗滌水槽液位過低警報：啟動聲響與燈號並停止加熱，並補充洗滌水。 排水異常：啟動聲響與燈號。 漏水訊號：啟動聲響與燈號。 廢氣處理器之相關配管 包含運轉本前段廢氣處理器所需之各項配置。 電源銜接由電箱銜接至設備，(需包含電箱內獨立開關)。各銜接於設備之電路施工需符合電工法規相關規定。 洗滌水管路銜接(洗滌水源至使用端)。 廢水排放管路銜接(需考慮洩水坡度，前段廢氣處理器須架高)。 N2與CDA管路銜接(包含球閥)。 前段廢氣處理器外圍須設有水盤預防排水異常時漏水。 得標廠商必須確定各管路能夠完