课件：CF制程简介雷清芳.pptVIP

光阻殘留 光阻殘留特徵： 在起始部端有光阻殘留現，大多與EXP內其中一個檔板偏移導致該區曝光留下所導致。 黑.MURA:在綠燈下產生大小區域不一之黑色不均 白. MURA:在綠燈下產生大小區域不一之白色不均 3D MURA:綠燈下會放射狀之黑色MURA,搖晃時會產生三D狀之錯覺 以上三種MURA均為曝光機台MASK污染影響PS光阻膜厚不均，處理方式為清洗光罩 PS MURA THANK YOU SUCCESS * * 可编辑 * * * * * * * * * 液晶顯示器是利用液晶本身的屈光特性來顯示出不同的灰階。液晶本身是一種長橢圓球狀的物體，其本身長軸與短軸的的屈光特性並不一致，以致當人眼的夾角變化時，感受到的光強度便不一致，就會有不同灰階的感覺。MVA的原理就是想利用不同角度的液晶，藉由互相的補強，來擴大視角的範圍 。的視線與液晶本身 * TFT LCD製程原以Spacer(間隔劑)來當作Array基板及CF基板之間的主要支撐，以決定兩片基板的距離(Cell Gap)。 採用球狀Spacer時，會以Spacer散佈機均勻的噴灑於整個面板上，但有時會出現Spacer凝集的現象或是Spacer刮傷畫素而導致不良發生。 CF Maker將Spacer以柱狀形成於CF基板上稱之為PS(Photo Spacer)，以PS為支撐時，可避免上述之現象，但PS的高度較Spacer難控制，若控制不佳，易引起Cell Gap不良。 RGB色度量測 色度 RGB特性量測 II 起始部 全距 終了部 幅手 RGB 特性量測 I 線寬 線寬 色度 透過率 ITO規格量測 理想下阻抗值越低越好 穿透率(88以上) 阻抗值(30以下) ITO膜 RGB-穿透率 理想下：穿透率越高越好 Photo Spacer 規格量測 13? 4? PS Top Area PS Bottom Area Opening of lower pixel Opening of upper pixel 2.75um 7.75um BM center Y BM center X 特性量測：位置精度、膜厚、上/下底線幅 X軸面 Y軸面 Photo spacer CF不良簡介 白缺陷： 漏光(RBM欠陷、RGB色剝、針孔、圖形刮傷等) 黑缺陷： 異物(RBM殘留、Particle、RGB光阻異物等) Mura缺陷： Mura(直/橫 Mura、黑Gap Mura、ITO色不均等) 白缺陷類-BM欠陷 BM欠陷特徵： 從反射光中較易看出，如果從透射光去看可以看見不規則遮光層消失，形成漏光現象。 反射光 透射光 THANK YOU SUCCESS * * 可编辑 白缺陷類- RBM額緣針孔 RBM額緣針孔： 從反射光中較易看出，如果從透射光去看可以看見遮光層消失，形成漏光現象。 反射光 透射光 白缺陷類- RBM膜面線刮 BM膜面線刮特徵： 從反射光中較易看出，如果從透射光去看可以看見遮光層消失(呈現線型)，形成漏光現象。 反射光 透射光 白缺陷類- R漏光 R漏光特徵： 從穿透光中較易看出，可以看見當站製程遮光層消失，形成漏光現象。 反射光 透射光 白缺陷類- 圓暈形色剝 圓暈型色剝特徵： 從反射光中較易看出，當站製程圖型呈現漸層式圓暈狀，打穿透光時可以漏光現象。 反射光 透射光 白缺陷類- R透明異物 R透明異物特徵： 從穿透光中較易看出，如果從透射光去看可以看見當站製程衍生不明透明狀異物，打穿透光形成漏光現象。 反射光 透射光 黑缺陷類- RBM光阻異物 BM光阻異物特徵： 從反射光中較易看出，如果從透射光去看可以看見開口部有異物，形成遮光現象。 反射光 透射光 黑缺陷類- R光阻異物 R光阻異物特徵： 從反射光中較易看出，如果從透射光去看可以看見當站製程衍生出的不明異物，形成黑欠現象。 反射光 透射光 黑缺陷類- Lip光阻異物 Lip光阻異物特徵： 從反射光中較易看出，當站製程圖形中可以看見當製程異物呈現薄狀、條狀、帶狀異物。 反射光 透射光 黑缺陷類- 黑色異物 黑色異物特徵： 從反射光中較易看出，當站製程出現不明黑色異物，穿透光無法穿透，形成遮光現象。 反射光 透射光 黑缺陷類- 纖維異物 纖維異物特徵： 從反射光中較易看出，圖形成線長條不規則曲線。 反射光 透射光 黑缺陷類- 散佈金屬異物 散佈金屬異物特徵： 從反射光中較易看出，可以看見開口部有多數小碎形異物(經分析多為金屬)，利用穿透光無法穿透，形成遮光現象。 反射光 透射光 何謂Mura Mura本來是一個日本字，隨著液晶顯示器在世界各地發揚光大，成為一個全世界都可以通的文字。主要是指顯示器亮度不均勻造成各種痕跡的現象。 放射狀Mura 放射狀Mura特徵：