PVD镀膜产品及制备工艺.pptVIP

目录 膜系介绍 工艺介绍 真空设备介绍 注意事项 装饰膜的标准色系 装饰膜的彩色系列 装饰膜的特性 每种颜色都可按不同的上下限色调生产---可参考色办册； 每种膜层都可依据客户要求沉积不同级别的厚度； 工件基材为碳钢、不锈钢、工具钢、钨钢、铜合金、钛合金、陶瓷、银等, 某些基材可能需先水镀底层来获得更好的附着力； 通过厚度、硬度、耐磨、耐腐蚀等测试，满足客户需求； 符合RoHS和REACH标准。 装饰膜的复合膜层 功能膜：IP硬膜 功能膜: DLC—类金刚石膜 功能膜：防指纹膜 抛光面防指纹效果 水接触角对比 Colorful Coatings (with Overlayer) Film Deposition 真空镀膜特点 被鍍物與塑膠不產生化學反應 環保製程； 無化學物污染 可鍍多重金屬 生產速度快 可對各種素材加工 屬低溫製程 最常見的PVD製程 蒸鍍(Evaporation) 蒸鍍(Evaporation)原理 蒸鍍(Evaporation)原理 蒸鍍(Evaporation)原理 鎢絲 鎢舟 鉬舟 濺鍍(Sputter) PLASMA 濺鍍製程技術的特點 成長速度快 大面積且均勻度高 附著性佳可改變薄膜應力 金屬或絕緣材料均可鍍製 適合鍍製合金材料 各種PVD法的比較 粗真空 低真空 高真空 超高真空 极高真空 欢迎有镀膜需求的朋友来电咨询！ 1 Evaporation Material Substrate Heater Vacuum chamber Cloud 2 Sputtering Material Substrate Plasma Material Substrate Heater Vacuum chamber Cloud Material Substrate Plasma 物質的第四態 0.50~833 0.17~16.7 1.67~1250 蒸鍍速率10-9m/sec 可，或無 通常無 可 加熱（外加熱） 可 可 通常無 表面與層間的混合 可 可，或依形狀不可 通常不可以 惰性氣體離子衝擊 可提高1~100Ev 可提高1~100eV 很低0.1~0.5eV 粒子能量 可 可 可 蒸鍍耐熱化合物 可 可 可 蒸鍍合金 可 可 可 蒸鍍金屬 佳 優 佳 平面 良好，但膜厚分佈不均 良好 佳 複雜形狀 蒸鍍均勻性 原子、離子 原子、離子 原子、離子 粒子 可提高 快 可提高 膜生成速率 熱能 動能 熱能 粒子生成機構 離子蒸鍍 濺射蒸鍍 真空蒸鍍 PVD蒸鍍法 ①溅射真空室组件： 真空室（不锈钢材料制造、氩弧焊接、表面进行化学抛光处理），真空室组件上焊有各种规格的法兰接口。 ②溅射靶组件 ： 锌靶材数量，靶内有水冷，电动控制挡板组件，靶配有屏蔽罩 ③基片水冷加热台组件： 基片尺寸、基片加热温度、基片回转、基片加负偏压 ④工作气路： 质量流量控制器、进气截止阀、混气室、管路、接头 ⑤抽气机组及阀门、管道： ⑥真空测量及电控系统： 电源机柜、总控制电源、水流报警系统、样品加热控温电源、靶挡板电源、加热烘烤及照明电源、热偶规、电离规、质量流量显示器、分子泵控制电源、射频电源、直流电源、直流偏压电源 ⑦各种配件及计算机控制系统： 复合分子泵、机械泵、电磁隔断放气阀、联接金属软管 A B C 旋片式机械泵工作过程图 真空系统 机械真空泵： 分子泵： 泵壳、主轴、转子叶片和定子叶片； 抽气组件由转子叶片和定子叶片相间排列组成； 通过热电偶直接测量热丝温度的变化，热电偶产生的电动势就可以表征规管内的压力。气体压强和热电偶的电动势之间存在的关系： 热偶真空计（测量低真空）： 利用某种手段使进入规管中的部分气体分子发生电离，收集这些离子形成离子流；由于被测气体分子所产生的离子流在一定压力范围内与气体的压力成正比关系，通过离子流的大小反映出被测气体压强。 I+=kIeP 由阴极、阳极和离子收集极三电极组成。 电离真空计（测量高真空）： 塑膠材料表面真空鍍膜具環保無污染且為附著力強的鍍膜，可以達到保護基材、裝飾、抗電磁波、導電或是抗反射等目的；為因應3C產業對於塑膠表面真空鍍膜技術的需求，提升產品品質與質感，將其塑膠表面金屬化。 一般而言，鍍膜在真空鍍膜機內以真空度 1~5 x 10 -4 Torr程度 進行 (1 Torr = 1 公厘水銀柱高的壓力，大氣壓為 760 Torr)。其鍍膜 膜厚約為 0.1 ~ 0.2 微米。　　如果鍍膜在特定厚度以下時（即太薄），面漆對底漆將會產生 侵蝕、引起化學變化（如表面霧化等）。如鍍膜過厚時，會產生白 化的狀態。　　關於鍍膜的形成，首先利用強大電流將鍍膜源 (鎢絲) 加熱， 然後把掛在鎢絲上的鋁片或鋁線熔解。鋁材從而蒸發、飛散到各方 面並附著於被