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数字后端设计流程-14 DRC DRC原理：基于计算机图形学！ 版图中的不同结构可以表示为不同的层，如： N阱 P阱 栅 各层金属线 版图中的每一个电路原件与连接线均由一系列具有一定大小，位于相应位置的矩形构成。 规则检查则建模为图形性质计算 数字后端设计流程-14 DRC 数字后端设计流程-15 LVS LVS – layout vs schematic LVS是为了检查版图文件功能与原有电路设计功能的一致性。 LVS的原理：网表比对！ 参考网表为APR工具时钟树、复位树综合后的网表。-- HDL文件 比对网表为LVS工具从版图中提取电路元件以及连接关系以后得到的网表 LVS软件根据标准单元库设计者提供的cdl网表文件从版图中提取电路网表。 数字后端设计流程-16 LVS 什么时候需要做DRC/LVS？ 只要对版图信息做修改，就需要做DRC/LVS检查。 数字后端设计流程-17 CALIBRE MENTOR GRAPHIC – CALIBRE 专业的DRC/LVS软件，可以单独使用，也可以嵌入virtuoso,astro中联合使用。 使用foundry提供的DRC/LVS检查脚本，可以自动完成DRC/LVS工作，且给出错误报告。 检查出的错误需要在版图编辑工具中修改。 DRC/LVS工具还有DIVA,DRACURA等。。。 数字后端设计流程-18 VIRTUOSO CADENC