SiO2与TiO2光学薄膜的制备及其椭偏测量.ppt

模板来自于 / * 模板来自于 * 模板来自于 * 模板来自于 * 模板来自于 * 模板来自于 * SiO2与TiO2光学薄膜的制备及其椭偏测量 答辩人： 指导教师： 班级： 印刷 光学薄膜概述及发展现状 02 椭圆偏振原理及概述 03 结论 06 答辩提纲 结果与讨论 05 实验设计 04 01 研究的目的及意义 随着光学薄膜技术在电子元器件、航天技术以及光学仪器等方面广泛的应用,光学薄膜的光学参数(折射率n、吸光系数k和薄膜厚度d)的准确测量逐渐成为薄膜研究的重要方向。本文采用椭圆偏振测量的方法测量光学薄膜的性能，主要是因为椭圆偏振仪测量过程中具有非接触、非破坏性、测量精度高等优点。在光学薄膜中，性能比较优异的薄膜是SiO2、TiO2光学薄膜，它们具有非常高的化学稳定性和机械强度性能。因此，本文选择这两种薄膜，通过溶胶-凝胶、浸渍提拉法来制备薄膜，然后用椭圆偏振法测量这两种光学薄膜的参数性能。 研究的目的及意义 光学薄膜的概述及发展现状 光学薄膜，一种非常重要的光学元件。 光学薄膜是一种在光在传播路径过程中，附着在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层，可以通过分层介质膜层时的反射、透射、折射和偏振等特性，从而达到人们想要的在某一个或是多个波段范围内的光的全部透过或光的全部反射或是光的偏振分离等各特殊形态的光。 具有反射、减反