清华大学化学系 材料与表面实验室 * 样品制备 离子溅射也是常用的表面镀膜方法, 其溅射原理见图9。 与真空蒸发相比,当金属薄膜的厚度相同时,利用离子溅射法形成的金属膜具有粒子形状小,岛状结构小的特点。 清华大学化学系 材料与表面实验室 * 样品制备 对于其它导电性好的样品如金属,合金以及半导体材料,薄膜样品基本不需要进行样品处理,就可以直接观察。只要注意几何尺寸上的要求。但要求样品表面清洁,如果被污染容易产生荷电现象。 对于需要进行元素组成分析的样品,一般在表面蒸发轻元素作为导电层如:金属铝和碳薄膜层。对于粉体样品可以直接固定在导电胶带上。 清华大学化学系 材料与表面实验室 * 电子通道效应 通道效应可以研究晶体的取向,点陈参数和晶体缺陷。 电子通道花样是一种相当弱的衍衬效应。可以采用电子衍射动力学理论解释。 在入射束做面扫描时,将在不同扫描点上引起与不同(hkl)面相对应的强度极大值和强度极小值。结果在屏上形成一系列规则带组成的图像。 清华大学化学系 材料与表面实验室 * 电子通道花样的形成 清华大学化学系 材料与表面实验室 * 获得电子通道花样的方式 清华大学化学系 材料与表面实验室 * 电子通道图的应用 电子通道花样的分析比较复杂,尤其是在定量分析上。 主要用于晶体结构参数的分析 The END 2002.11.15 清华大学化学系 材料与表面实验室 * 背反射电子象
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