等离子体表面技术及应用课件.pptVIP

等离子清洗设备特点和优势 1. 等离子体设备原理 1） 感应偶合式等离子体产生法（ICP） 感应偶合式等离子体与（Inductively－Couplede－Plasma，ICP）的工作原理，就是在线圈上加上一个高频电源，当线圈上的电流改变时，就可由安培定律知道，当感应产生一变动磁场，同时可由法拉第定律知道此变动之磁场会感应出一个反应方向的电场，此电场会加速等离子体中的电子而形成一线圈电流相反的二次电流。并且随着与加于线圈上的电流不断改变，而感应出的电场也不断改变，这不断改变电场与平板式高调波等离子体一样能用来加速电子以维持等离子体，所不同的是电场与电极方向不同。在平板式高调波等离子体中电子受电场影响而运动方向垂直于电极，所以会有许多电子逃离等离子体跑到电极上，使能量消耗在加热电极上，而在感应偶合式等离子中，电子受感应电场的影响而使运动方向与电极平行，因此不会有太多的电子损耗在电极上，固可以维持线圈周围相当高的电子密度。 ICP的主要优点为： （1）等离子体密度高、解离率高，能够在相当大的压力范围上保持高密度等离子体。 （2）平板式ICP可大面积操作。 （3）ICP等离子体中的电子温度低、离子动能低、等离子体电位低。 （4）等离子体密度及离子转击基板的动能可分开控制。 （5）设备简单。 但其唯一的缺点为线圈电极可能被离子打出而污染镀膜品质，一般改善的方法有： （1）将线圈电极的一端接地以降低线圈电极之电位，即减少电容效应。 （2）并联一直流电压以防止离子转击。 （3）可使用法拉第屏蔽（Faradays shielding）以消除电容效应。 （4）将线圈以介电材料被覆（coating）以降低等离子体电位。 2） 阴极等离子体产生法（HCF） 在一金属管装物，可为圆形、方形、椭圆形或其他形状，在外加一高调波在此管状物上，会产生一个自我偏压，故造成整支管子都是带一偏压，这使得电子无论是往哪一方向作运动，都会被排斥，所以，电子在管内会作来回振荡的运动，固电子在碰撞到电极板前，能走更长的距离，这就是表示电子会有更多的机会或几率与中性气体原子产生碰撞，从而产生等离子体。 等离子清洗设备特点和优势 3） 电子回旋共振电浆产生法（ECR） 此为微波（Microwave）与磁场共同组合的一种等离子体产生法，电子在磁场中会作旋转的运动，当磁场强度越来越强时，电子旋转的速度会越快，在磁场强度为875GA/m时，电子旋转的频率为2.45G赫兹，此频率恰巧为微波的频率，因频率相近而产生共振，此共振现象就有利于电子吸收微波的能量，因拥有较高能量的电子，这将有助于等离子体的产生。 等离子清洗设备特点和优势 综上所述,等离子体化学是使物质通过吸收电能进行的气相干式化学反应，具有节水省能无公害、有效利用资源、有益环境保护的绿色化学特征。利用等离子体活性物种（电子、离子、自由基、紫外线） 具有的高活性，可以实现一系列传统化学和水系处理法所不能实现的新的反应过程，其反应具有鲜明特点： ① 速度快：气体放电瞬间发生等离子体反应,有时几秒钟就可改变表面的性质； ② 温度低：接近常温，特别适于高分子材料； ③ 能量高：等离子体是具有超常化学活性的高能粒子，在不添加催化剂的温和条件下即可实现传统热化学反应体系所不能实现的反应（聚合反应）； 等离子清洗设备特点和优势 ④ 广适性：不分处理对象的基材类型,均可进行处理,如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料等都能很好地处理； ⑤ 功能强：仅涉及高分子材料浅表面（ 10 微米），可在保持材料自身特性的同时，赋予其一种及以上新的功能； ⑥ 环保型：等离子体作用过程是气- 固相干式反应，不消耗水资源、无需添加化学试剂，对环境无残留物，具有绿色环保特征； ⑦ 低成本：装置简单，易操作维修，可连续运行。因此，采用等离子体高分子材料改性技术可能克服传统方法使用中的缺陷，使高分子材料表面加工更符合环保原则。 ⑧ 由于等离子体清洗是在高真空下进行的，所以等离子体中的各种活性离子的自由程很长，他们的穿透和渗透能力很强，可以进行复杂结构的处理，包括夹层、细管和盲孔。 我公司代理等离子产品介绍 1. 代理品牌及主打产品介绍 1） 美国Harrick Scientific Harrick Scientific 所生产的等离子清洗器专业用于表面清洗、表面处理和表面分子重组的高科技设备。它具有设计精巧、成本低廉、功能全面等优点，广泛应用于金属、陶瓷、复合材料、塑料、聚合物和生物材料的表面处理。 Harrick Scientific 主要生产两种型号等离子清洗器，基本型和扩展型。并可以根据客户的需要