二氧化硅与信息材料sym.pptVIP

2、化学性质 硅单质在常温下化学性质稳定，与氧气、氯气、硝酸、硫酸等物质都很难发生反应，但能与氟气、氢氟酸、强碱反应。 　 在加热时能跟O2等物质发生反应。常作为还原剂。 ①与F2反应 ②与HF反应 ③与碱反应 ④与O2等非金属反应 Si + 2F2 = SiF4 Si + 4HF = SiF4↑+ 2H2↑ Si + H2O + 2NaOH = Na2SiO3 + 2H2↑ Si + O2 = SiO2 △ 3、硅的用途 半导体 光电池（将光能转化为电能） 硅芯片（用于计算机） 半导体晶体管及芯片的出现， 促进了信息技术革命。 硅芯片 硅太阳能 供应集成电路板 音乐集成电路板 晶体管 4、硅的制取: 制取纯硅: Si+2Cl2 = SiCl4 (液态) SiCl4+2H2 = Si+4HCl 硅晶片生产 硅熔炉 高温 高温 粗硅在高温下跟氯气 反应生成一种液态物质。经蒸馏提纯后，再用氢气还原制得纯硅。 高温 制取粗硅:SiO2+2C = Si+2CO↑ C １、下列物质的主要成分不是SiO2的是 （ 　） 　　A、石英 B、水晶 C、金刚砂 D、玛瑙 ２、下列物质不与水反应的是（　　） 　　A、CaO B、CO2 C、SiO2 D、SO2 C ３、下列试剂的存放方法，正确的是：（ ） 　　A．氢氧化钠、纯碱以及水玻璃要存 放在带磨砂玻璃塞的试剂瓶中 　　B．氢氟酸盛放在棕色玻璃试剂瓶 　　C．液溴盛放在棕色广口瓶中 　　D．氯水盛放在棕色细口瓶中 D ４、将固态的氢氧化钠加热至熔融状态，可选 　　用的器皿是 ( ) 　A.铁坩埚 B.石英坩埚 　C.石墨坩埚 D. 蒸发皿 AC 5. 要除去SiO2中混有的少量杂质CaCO3，最适宜的试剂是 ( ) A.水 B.盐酸 C.稀硫酸 D.氢氧化钠溶液。 B 7.选适当试剂或方法除去下列物质中的杂质（括号内为杂质）。 （1）SiO2(CaCO3) ； (2)NaCl (SiO2) ； (3)Fe2O3 (SiO2) ； 稀盐酸 过滤 水 过滤 氢氧化钠溶液 过滤 将n mol木炭粉和1mol氧化亚铁在反应器中混合，隔绝空气 加强热。 （1）可能发生的化学反应有： ①FeO+C=Fe+CO↑ ②2FeO+C=2Fe+CO2 ↑ ③FeO+CO=Fe+CO2 ④ ； （2）若n1/4,充分反应后,反应器中的固体物质是 , 气体产物是 . (3)若n4,充分反应后,反应器中的固体物质是 ,气体产物是 . (4)若反应的气体产物是混合物,则n的取值范围是 . (5)若反应的气体产物是混合物,且混合气体中CO和CO2的物质的量相等,则n的值为 . C+CO2=2CO FeO和Fe CO2 C和Fe CO ?n1 2/3 * 专题3 从矿物到基础材料第三单元 含硅矿物与信息材料 随处可见的含硅化合物及产品 1.硅元素在地壳中的含量： 一.硅的存在： 硅是一种硬度大，难溶于水的固体，是良好的半导体。 只有化合态，无游离态。 在地壳中含量居第二位。 2. 硅的氧化物及硅酸盐构成了地壳中大部分的岩石、沙子和土壤,约占地壳总量的90%以上。 二.硅酸盐及其产品 1.硅酸盐组成的表示方法 硅酸盐的种类多、结构很复杂，其组成表示方法一般有两种： 1）盐化学式法 如：硅酸钠Na2SiO3 、硅酸钙CaSiO3等。此法一般用于组成较简单的硅酸盐。 2）盐氧化物法 金属氧化物写在前面，再写SiO2，最后写H2O；氧化物之间用“·”隔开。 对于复杂的硅酸盐，通常可用二氧化硅和金属氧化物的形式来表示其组成。 例如：Na2SiO3 Na2O·SiO2 Al2(Si2O5)(OH)4 Al2O3·2S