第1章电子材料常用的微观分析方法.pptVIP

* AFM的悬壁通常用 劲度系数极小的弹性 材料制成，以保证它 对探测到的力的变化 具有极端敏感性。 悬壁位置的细微变化可用激光束偏转反射方法放大，通过探测反射后的光信号，并由后续信号处理反馈系统，控制AFM的测量过程，可输出反映样品表面直接信息的图象和数据。 * AFM探头的形状一般不像STM那么尖锐。因为虽然尖细的AFM探头有利于提高测量精度，但由于它与样品表面层的有效作用面积小，测得的分子力太弱，对测量不利。所以，通常AFM的探头做成圆锥状，锥体的底面半径为μm的量级。 * AFM在工作时，悬壁不仅在样品表面扫描，而且可在外加 强迫力的作用下作一定频率的振动，其共振频率还与悬壁及其末端部分的质量有关。 当强迫力的频率低于悬壁的共振频率时，其振动相位与强迫力的振动相位相同； 当频率进一步增加，除了会产生共振现象外，悬壁的振动与外加信号的相位相比，有0~π的滞后。 * 根据悬壁工作状态的 不同，可将AFM的工作模式 分为两大类： 静态工作模式 动态工作模式。 静态模式是指悬壁不受 外加 强迫力的调制，不产生 振动。 当AFM以静态模式工作时，探头与样品表面之间的距离处于图20-27中rr0区域，即排斥力的区域。 由于这时探针尖原子和样品表面之间的距离一般小于0.03μm，探头和样品表面原子的电子云发生部分重叠，静态工作模式可以用来测量和分析原子间的近程相互作用和电子态，当然，也可以用来测量表面形貌和结构。 * 当AFM以动态模式 工作时，安装在悬壁上 的压电陶瓷被高频电压驱 动，带动悬壁一起振动， 这时悬壁和样品之间需保 持较大的距离（约103μm的量级），所以动态模式是非接触模式。 通过改变振动频率，使悬壁的振动幅度受到调制，测量振动幅度的变化，就（动态模式）可获得有关相互作用力大小的信息。而测量振幅变化的方法，通常以光学的干涉原理为基础。 * STM 小电影 AFM 小电影 * 五、正电子湮没技术及其应用 （一）、基本概念 正电子----电子的反粒子。 正电子湮没----当正电子与电子靠近时，正电子与电子的全部质量转换为电磁辐射能，即转换为 γ 射线。 * 正电子湮没的三种形式 1、当正电子与原子的外层电子发生湮没时，且自旋方向反平行时，产生双 γ 辐射。 发生的几率最大，是主要的正电子湮没表现形式。 2、当正电子与原子的外层电子发生湮没时，且自旋方向平行时，产生三 γ 辐射。发生的几率很小。 3、当正电子与原子的内层电子发生湮没时，产生单 γ 辐射。发生的几率很小。 * 对于能量低的正电子，单位时间发生双 γ 辐射的几率（正电子的湮没率）λ 与正电子处的电子密度 ne成正比 ，即 λ ∝ ne 正电子寿命---正电子在样品中存在的时间，是正电子湮没率 λ 的倒数。 正电子寿命与样品中电子的密度有关，而与正电子的速度无关。 在金属或合金中正电子寿命大约为0.1—3.0ns. * 正电子-电子对湮没，满足动量守恒。 假设湮没前正电子-电子对总动量为零，湮没时将它们的全部静止质量转变为 γ 光子的能量，则 γ 光子的能量应当为8.19*10-14J（=0.511MeV=mec2）。 因湮没后总动量也为零，所以辐射出的 γ 射线方向应相反，即呈180°角射出。 * 实际上，样品中的电子并不是静止的，而是有一定的动量，导致湮没 产生的γ 射线方向相对180°有所偏离，且γ 光子的能量也偏离8.19*10-14J，造成γ 光子的能量在一个小角度内分布，称为角关联。 另外，样品中的电子动量并不是相同的，而是有一个分布范围，因此一个方向上的 γ 射线相对另一方向的γ 射线，在180°范围内， γ 射线的能量也形成一个展宽分布，称为多普勒加宽。 正电子寿命、角关联、多普勒加宽三者都表示样品中正电子的湮没特性。分别由相应的仪器进行测量。 * （二）、测量方法 1、正电子寿命的测量