铝合金高硬度膜制备实验研究.docVIP

PAGE PAGE 1 铝合金高硬度膜制备实验研究 　　摘要在硅酸盐体系下对2024铝合金进行微弧氧化反应，通过改变Na2SiO3?9H20与KOH的比例研究其对微弧氧化的起弧电压，薄膜的致密度，厚度耐磨性能的影响。结果表明：随着Na2Si03浓度升高，膜层厚度增加；KOH浓度的提高显著提高电解液的导电率及氧化膜层的质量，降低工作电压。通过本工艺制备薄膜硬度高，耐磨性好，得到了本实验条件下的最佳氧化电解液浓度配比。 　　关键词铝合金；微弧氧化；硅酸盐体系；耐磨性 　　中图分类号：TG174文献标识码：A文章编号：1671—7597（2013）041-038-02 　　1绪论 　　铝合金材料具有密度小，比强度高，易成型加工等优点，在航空、航天，汽车、电子等多个领域有广泛的应用，但铝合金硬度低、耐磨性和耐蚀较差，所以通过相应的表面处理提高其使用性能具有重要意义。微弧氧化是直接在基体金属表面原位生长陶瓷层的新技术，所制备的陶瓷膜与机体结合牢固，致密度高，硬度高，很好的改善了耐磨性、耐蚀性，耐冲击性及电绝缘等性能，从而大大扩展铝合金的应用范围。电解液对微弧氧化膜的影响非常大，故本文着重研究了电解液成分和电参数对微弧氧化膜层硬度耐磨性的影响。 　　2实验方法 　　2.1试样材料 　　本实验选用2024铝合金为实验材料，对原材料片进行切削加工制成50mm×20mm×5mm的试样。主要工序为：试样打磨→除油→清洗→微弧氧化→清洗→干燥→检验氧化膜。 　　2.2微弧氧化处理工艺 　　本课题采用哈尔滨工业大学研制WHD10-400微弧氧化电源，电解液采用硅酸盐体系进行实验。电解液采用Na2SiO3?9H20与KOH按一定比例配配制，氧化时采用恒流法，电流密度确定为9A/dm2，频率为250Hz，氧化时间为90min。 　　3实验结果与讨论 　　3.1Na2SiO3浓度及KOH浓度对微弧氧化膜层质量的影响 　　在电解液配比实验中，按照基本满足微弧氧化膜使用要求为原则，防止薄膜过薄或过粗糙，经筛选排除后只对KOH浓度1-2g/l，Na2Si03浓度6-12g/l时进行实验分析，采用KOH浓度为1g/l，Na2Si03浓度6-12g/l的电解液进行试验，发现电压升至320V左右时试样表面开始起弧，当实验进行90min后，试样表面火花开始变的稀疏并且颗粒粗大，可以停止反应，确定氧化时间为90min。当KOH浓度为2g/l，当电压升至290V左右时开始起弧，当实验进行80min后可以停止弧氧化反应。对试验结果分析后得出在KOH浓度为1g/l和2g/l时，Na2Si03浓度与膜层的厚度的关系曲线分别如图1。 　　由图1可知，Na2Si03浓度对膜层质量的影响是随着Na2Si03浓度升高，膜层厚度会明显增加，膜层的均匀性会下降，且当Na2Si03浓度大于10g/l后均匀性才开始下降明显。 　　由图1可发现KOH浓度为2g/l时所得膜层都比KOH浓度为lg/l时所得膜层的厚度要大，KOH浓度为2g/l时，试验的起弧电压在290V左右，而KOH浓度为lg/l时，试验的起弧电压在320V左右，对比微弧氧化处理完的试样后发现，KOH浓度为2g/l时所得微弧氧化膜层的均匀性都比KOH浓度为lg/l时要差。 　　3.2占空比对膜层性能的影响 　　在最优配方配制的微弧氧化电解液中，采用不同的占空比进行微弧氧化试验，氧化时采用恒流法，电流密度确定为9A/dm2，对占空比为10%、20%、30%、40%、50%进行试验分析。其它工艺参数暂定为：氧化时间90min、频率为250Hz。对实验结果分析后得出占空比与膜层厚度的关系曲线如图2所示。 　　由图2可以看出，随着占空比的升高，所得微弧氧化膜层的厚度也随之增大，但当占空比超过40%时，膜层开始变的疏松、粗糙、成膜不均匀，且试样表面外观形貌不佳，触点出现烧蚀现象。 　　3.3微弧氧化膜层硬度测试及物质结构分析 　　经硬度测量可得膜层硬度平均值为1100HV，而采用硬质阳极氧化工艺处理的同种试样硬度平均值仅为200HV，所以经微弧氧化处理的试样硬度比一般的表面处理工艺高很多，同时高硬度可以极大的提高膜层的耐磨性能。 　　3.5微弧氧化膜层的磨损实验分析 　　本试验采用的磨损试验机为高温摩擦磨损试验机，载荷为500g，摩擦半径5mm，试验时间20min。对应用最优电解液配方及最佳工艺参数进行微弧氧化处理的试样进行筛选，选出膜层致密层厚度最厚，膜层均匀性及手感细腻程度最好的试样进行磨损试验。磨损试验后致密层试样失重-0.7mg，疏松层失重-1.43mg。致密层摩擦系数要小于疏松层。 　　从实验结果看出，试验未失重，反而增重，且疏松层增重大于致密层，说明应用本课题研究的最优电解液配方及最佳工艺参数进行微弧氧化处理的试样所得膜层致