第3章半导体中载流子的统计.pptVIP

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  • 2019-09-28 发布于湖北
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第3章 半导体中载流子的统计分布 第3章 半导体中载流子的统计分布 第3章 半导体中载流子的统计分布 第3章 半导体中载流子的统计分布 第3章 半导体中载流子的统计分布§3.1 状态密度 状态密度 计算步骤 计算单位k空间中的量子态数; 计算单位能量范围所对应的k空间体积; 计算单位能量范围内的量子态数; 求得状态密度。 3.1.1 k空间中量子态的分布 3.1.2 状态密度 1.导带底E(k)与k的关系(单极值,球形等能面) 球面包含的量子态数 E是连续(准连续),求微分 导带底附近状态密度 价带顶附近状态密度 2. 对于各向异性,等能面为椭球面 椭球面包含的量子态数 晶体对称性,极值附近对应椭球不止一个,若有s个对称椭球,导带底附近状态密度 硅锗半导体等能面为椭球面,即 则状态密度(必记) mdn称为导带底电子状态密度有效质量。 对于Si,导带底有六个对称状态,s=6 mdn =1.08m0 对于Ge,s=4 mdn =0.56m0 同理可得价带顶附近的情况 价带顶附近E(k)与k关系 价带顶附近状态密度 其中 mdp称为价带顶空穴状态密度有效质量 对于Si,mdp=0.59m0 对于Ge,mdp=0.37m0 (2) f(E)与 的关系 f(E)的数值取决于能级差E-EF,而E-E

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