光学薄膜的激光损伤与破坏(海南).pptVIP

光学薄膜的设计及激光损伤 南京工业大学 倪亚茹 12/11/2006 内 容 1 光学薄膜的性质和种类 2 光学薄膜对激光的吸收和散射 2 光学薄膜对激光的吸收和散射 3 光学薄膜的驻波场和温度场 3.1 光学薄膜的驻波场 3.1 光学薄膜的驻波场 3.2 光学薄膜的温度场 4 光学薄膜激光破坏的影响因素 4.1 光学薄膜激光损伤研究 5 光学薄膜激光破坏阈值的增强 5 光学薄膜激光破坏阈值的增强 5 光学薄膜激光破坏阈值的增强 Company Logo LOGO 光学薄膜的性质和种类 1 光学薄膜对激光的吸收和散射 2 光学薄膜的驻波场和温度场 3 3 光学薄膜激光破坏的影响因素 4 4 光学薄膜激光破坏阈值的增强 5 1.1 光学薄膜的一般性质 1 光学薄膜的性质和种类 反射角和折射角遵守斯涅尔定律 反射光束和折射光束的电场振幅由费涅尔系数决定 光学增透膜 光学反射膜 光学偏振膜 干涉滤光片 （带通、截止） 光学薄膜 种类 由于消光系数和粗糙度的存在，光在薄膜中存在吸收和散射损耗。 其不仅会导致薄膜性能的下降，且容易引起薄膜的激光破坏。 2.1 薄膜吸收 单层膜吸收率 多层膜吸收率 导致薄膜激光破坏的最重要因素之一 2.2 薄膜散射 粗糙界面的反射率RS 粗糙界面的散射损耗Sr 是反射波和入射波相干叠加的结果。 相位差是2π的整数倍，则在该处形成驻波波腹； 相位差是π的奇数倍，则在该处形成驻波波结。 3.1 驻波场 结构A |(HL)PH|S 结构:A |(HL)P|S 普通λ/4膜系高反射膜的驻波场 二、三层增透膜的驻波场 平板型偏振膜的驻波场 法布里－白洛型干涉滤光片的驻波场 L H L H L H L L H H L H 1/4λ膜层 1/4λ膜层 1/2λ膜层 驻波场越大，该处的吸收损耗越大； 在驻波场为零的地段，不管吸收多大，其吸收损耗都为零。 单层TiO2膜的温度场与热导率的关系 单层TiO2膜的温度场与消光系数的关系 薄膜的峰值温度随 吸收系数的增加而 急剧增加 热导率的变化不仅影响薄膜内的温度峰值，而且影响温度场的分布。 薄膜的厚度 基体特性 激光光斑尺寸 薄膜杂质缺陷 累积效应 薄膜激 光破坏 的影响 因素 南光 ZZS-700 7 φ25×9.5 9.95 φ25×2 HfO2/SiO2的22层1064nm高反膜 南光 ZZS-700 5.5 φ25×9.5 HfO2/SiO2的2层 1064nm减反膜 5.92 φ25×2 莱宝 APS-904 16.7 φ25×9.5 17.8 φ25×2 27.9 φ25×2 莱宝 APS-904 27.1 φ25×9.5 镀膜机 损伤阈值(J/cm2) 10ns ,1064nm 样品尺寸 膜层工艺 K9玻璃表面镀膜后膜层的损伤阈值 溅射法(Sputtering) 溅射法涉及到利用高压从源或叫靶子上移走材料。从靶子上移走的原子在腔室内成为离子化气体弥散在室内，能够沉积在基质上。靶子表面作为阴极或阳极连入电路，基质则连接在正极或负极，如图所示意。溅射腔室内充有惰性气体如氩气，在高压下可以电离化。荷正电离子在靶子表面得到加速，它们有足够的能量可以撞击靶子使得其上的原子离开把子材料，其中大多数原子趋向基质材料表面加速，接二连三的撞击、沉积就形成了薄膜。 溅射制薄膜设施示意图 APS镀膜技术 kaufman离子源、射频离子源、霍尔离子源、冷阴极离子源、电子回旋离子源、阳极层离子源感应耦合离子源 …… 目的是在线清洗，改善被镀表面能量分布和调制增加反应气体能量。离子源可以大大改善膜与基体的结合强度，同时膜本身的硬度与耐磨耐蚀特性也会改善。 增强途径 B E C D A 改进制备工艺 改进薄膜膜系 激光预处理 ……钢化处理 增大表面发射率，改善热传导性能 优化电子束沉积工艺参数 改进基体的加工和清洗工艺 采用离子沉积工艺 薄膜表面杂质的退吸附； 薄膜内部微缺陷的移除； 光学击穿的初始电子移除 可以对窗口、滤光片、探测器、光学系统和壳体结构等各种靶目标进行保护。 旨在改变薄膜内部的驻波场和温度场 粗糙度值(rms): 1.122nm Fth0％＝54.9（ J/cm2,1.06?m ） 粗糙度值(rms): 4.040nm Fth0％＝27.4（J/cm2,1.06?m） 激光辐射处理后 5.3 激光预处理 5.3 激光预处理 粗糙度