白光垂直扫描演算法-AOIEA.pdf

白光垂直掃描演算法 張宏彰 林耀明 致茂電子 致茂電子 popai@.tw ymlin@.tw 摘要 隨著半導體、微機電、生醫等科技產業的進步，相關研究及產品的製作越來越精細，以期有效利 用有限的空間，伴隨之相關量測儀器的精確度要求也相對提升。近來因奈米製程的興起，量測精度達 奈米級的自動光學檢測儀器也因應而生。白光干涉儀器為一奈米級自動光學檢測儀器，此干涉儀基於 白光干涉原理，利用改變基準面及待測物表光程差的方式，產生一系列的干涉圖譜，繼而使用白光垂 直掃描演算法(White light vertical scanning algorithm)計算出零光程差的位置，求出待測物表的高度。 本論文以白光干涉條紋對稱於零光程差處、干涉條紋在零光程差處有最大亮度值以及干涉條紋頻 率固定等特性 © 發展出快速、準確分析干涉圖譜的 MFPC (Maximum Folding Phase Compensation) 演算法，計算出待測物體表面階高。習知的演算法僅利用部分波包特性的演算法，本創作運 用所有白光波包之特性作為演算的法則，可準確、快速的獲得待測物體之表面形貌。依此方 法於白光干涉系統進行實際驗證，結果顯示此演算法不但在速度上優於現今速度超越其他演算法的質 心法(Centroid Method) 、量測重複性佳，且可將因繞射產生之bat wing 去除，此方法已實作在致茂電 子發展之 Chroma7502 系統上，並已提出專利申請。 關鍵字：白光干涉、 VSI 、奈米量測、LCD 壹、前言 利用白光干涉技術獲得三維物表形貌的演算方法分成兩類，如下所述： 一、相移干涉(Phase Shifting Interferometry 以下簡稱 PSI)演算法 此類演算法乃利用干涉圖譜的規律頻率相位變化，藉由相位資訊擷取、解相位與相位重建等步 驟，計算出表面形貌，此類演算法適用於表面平滑之樣品，一旦待測物表面有較大的高度差 (相鄰二 像素點高度差大於光波長的八分之一：高度差 λ/ 8) ，PSI演算法便無法正確的求得三維表面形貌。 二、垂直掃描干涉(Vertical Scanning Interferometry 以下簡稱VSI)演算法 此類演算法乃利用干涉圖譜對稱於零光程差處及在零光程差處亮度最大的特性分析干涉圖譜，找 出零光程差(0 Optical Path Difference 以下簡稱 OPD)位置得到表面形貌，此法無 PSI演算法在待測物 體表面上的限制，可處理粗糙表面，量測範圍也無限制。但量測精度卻較 PSI演算法差；此類方法列 舉如下： 1 U.S. Pat. No.5,633,715 ，利用干涉圖譜對稱於零光程差處的特性，使用質心法(Centroid Method) 算出干涉圖譜的質心 -待測表面高度，此法速度快，但若波包處干涉條紋不對稱 實際樣品經常發生( ) ， 質心法將無法適用，且此法在掃描範圍大或系統訊雜比大時，雜訊也包含在質心計算中，計算所得表 面形貌的準確度差，尤其在表面高度範圍較大的樣品量測誤差更為明顯。 U.S. Pat. No.5133601 ，利用條紋對比在零光程差處最大的特性，以相位差為90度之掃描步幅掃 描，獲得干涉圖譜，使用干涉圖譜上連續五點或三點的之亮度數值，求取各中心點之條紋對比，經比 較獲得最大條紋對比處 (max modulation contrast) ，當成離零光程差最近處；再搭配相位補償方式更精 確求取零光程差處，此法有下列缺點：條紋對比計算需要很大計算量，非常耗時；且此法抗雜訊能力 不佳，一旦在零階干涉條紋(central fringe)附近有較大的雜訊，所求得最大條紋對比處