实验设计DOE课件.ppt

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2019-10-13 发布于江苏
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第二阶段: 后续DOE 在第一阶段DOE中发现7个因子中3个的影响最大 (磨床转速 rpm (X1), 推进速度 (X2), 和冷却剂浓度(X5)) 下面进行的是全因子实验，看看有无交互作用的存在，同时确立一个初步的预测方程式各因子的水平设置如下: X1 = 磨床转速 rpm (500, 800) X2 = 推进速度 (2, 8) X5 = 冷却剂浓度 (20, 30) Run X1 X2 X5 microfinish 1 -1 -1 -1 141.4 2 1 -1 -1 138.2 3 -1 1 -1 146.0 4 1 1 -1 142.8 5 -1 -1 1 130.2 6 1 -1 1 127.0 7 -1 1 1 140.8 8 1 1 1 137.6 从筛选试验到后续试验，因子水平的设置该如何调整? 在后续DOE中，其他因子如X3, X4等该如何设置? 图示分析-后续 DOE y-hat = 138 - (1.6*X2) + (3.8*X2) - (4.1*X5) + (1.5*X2*X5) 可否找到最佳设置? 实验设计 Q/A 有反复的部分因子实验 File: mont3.mtw 分析结果残差分析有反复的ANOVA Term Effect Coef StDev Coef T P Constant 30.5000 0.8339 36.58 0.000 Aperture 13.5000 6.7500 0.8339 8.09 0.000 Exposure 32.1250 16.0625 0.8339 19.26 0.000 Developm 9.3750 4.6875 0.8339 5.62 0.000 Mask Dim 0.0000 0.0000 0.8339 0.00 1.000 Etch Tim 0.0000 0.0000 0.8339 0.00 1.000 Aperture*Exposure 9.3750 4.6875 0.8339 5.62 0.000 Aperture*Developm 3.6250 1.8125 0.8339 2.17 0.045 Aperture*Mask Dim 2.0000 1.0000 0.8339 1.20 0.248 Aperture*Etch Tim 1.0000 0.5000 0.8339 0.60 0.557 Exposure*Developm -1.5000 -0.7500 0.8339 -0.90 0.382 Exposure*Mask Dim 0.6250 0.3125 0.8339 0.37 0.713 Exposure*Etch Tim -0.3750 -0.1875 0.8339 -0.22 0.825 Developm*Mask Dim -0.1250 -0.0625 0.8339 -0.07 0.941 Developm*Etch Tim 0.8750 0.4375 0.8339 0.52 0.607 Mask Dim*Etch Tim 1.5000 0.7500 0.8339 0.90 0.382 Analysis of Variance for Yield (coded units) Source DF Seq SS Adj SS Adj MS F P Main Effects 5 10417.2 10417.2 2083.45 93.64 0.000 2-Way Interacti