TFTLCD黄光制程介绍.pptVIP

Photo Process Coater introduction 目的 1.将MASK上的图案转移到胶中 2.在后续工艺中保护下面的材料 PR的物理特性 分辨率 对比度 敏感度 粘滞性 黏附性 抗蚀性 表面张力 存储和传送 沾污和颗粒 分辨率 能够在玻璃基板上形成符合要求的最小的特征图形。形成的CD越小，PR的分辨能力和光刻系统就越好 对比度 PR从曝光区域到非曝光区域的过度的陡度 敏感度 PR产生良好图形所需要的一定波长的最小能量值（MJ/C㎡），对于一定的曝光能量，PR的吸收量越大越好 粘滞性 粘滞性与时间有关，会随着PR溶剂的挥发增加。粘滞性增加，PR流动趋势变小，厚度会增加。 粘附性 PR与下层材料黏附之强度。如黏附性不好，会导致表面图形的变形。 抗蚀性 PR必须保持黏附性，并在蚀刻工艺中保护下层材料。如在高温下进行处理，还需要有热稳定性。 表面张力 液体中将表面分子拉向液体主体内的分子间吸引力。 沾污和颗粒 在PR涂布之前，要使用Filter，使沾污控制在最小程度 Exposure Introduction Locations of Units MASK（掩膜版）分类 亮场掩膜版 暗场掩膜版 材料 石英：高光学透射和低温度膨胀。 铬：沉积在掩膜版上的不透明材料。有时 会在铬表面形成一层氧化铬抗反射层。 Opera