薄膜的化学气相沉培训教材.ppt免费

薄膜的化学气相沉积 4.5.3激光辅助CVD装置 4.5.4金属有机化合物CVD（MOCVD）装置 讲解人：孙正上 4.5.3激光辅助CVD装置 定义：用激光束照射封闭于气室内的反应气体，诱发化学反应，生成物沉积在置于气室内的基板上，通过激光活化而使常规CVD技术得到强化。 热作用：激光能量对于衬底的加热作用可以促进衬底表面的化学反应进行，从而达到化学沉积的目的。 光作用：高能量的光子可以直接促进反应物气体分子分解为活性化学基团。一般只有紫外波段的准分子激光才具有这一效应。 4.5.4金属有机化合物CVD（MOCVD）装置 金属有机化合物指的是有机基团与金属元素结合而形成的化合物，如三甲基铝、三甲基镓、二乙基锌等 MOCVD装置与一般CVD装置的区别仅在于前者使用的是有机金属化合物作为反应物 使用有机化合物的优点在于这类化合物在较低的温度下即呈气态存在，避免了铝、嫁、锌等液态金属蒸发过程的复杂性，因而其对工艺的敏感性小，重复性好 MOCVD过程涉及的仅是有机金属化合物的热解 MOCVD装置示意图 沉积室是MOCVD生长系统的核心组成部分，沉积室的设计对生长的效果有至关重要影响。 加热系统主要是射频，射频就是射频电流，大于10000次的称为高频电流。 由于MOCVD系统中采用的大多数源均易燃易爆，而其中的氢化物源又有剧毒，因此必须对反应过后的尾气进行处理。 杜瓦瓶是储存液态气体、低温