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第 卷 第 期 液晶与显示
32 2
Vol.32 No.2
ChineseJournalofLiuidCrstalsandDislas
年 月 q y p y
2017 2 Feb.2017
文章编号: ( )
1007G2780201702G0091G06
搭桥晶粒多晶硅薄膜晶体管栅交流电应力下的
退化行为与退化机制研究
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张 猛 夏之荷 周 玮 陈荣盛 王 文 郭海成
( , )
香港科技大学 先进显示与光电子技术国家重点实验室 香港
: ( ) ( ) .
摘要 本文主要研究了搭桥晶粒 BG 多晶硅薄膜晶体管 TFT在栅交流电应力下的退化行为和退化机制 在栅交流应
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力下 动态热载流子效应主导了器件的退化 器件退化只与栅脉冲下降沿有关 越快的下降沿带来越大的动态热载流
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子退化 比起普通多晶硅 TFTBG多晶硅 TFT的热载流子退化大幅度减弱 通过选择性的掺杂注入 BG线 沟道中形
, . ,
成的PN结在反向偏置时可以有效分担栅交流电应力带来的电压差 从而减弱动态热载子退化 辅以瞬态模拟结果 栅
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交流电应力下的退化机制被阐明 所有的测试结果都表明这种高性能高可靠性的BG多晶硅 TFT在片上系统应用中
具有很大的应用前景.
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关 键 词 搭桥晶粒 多晶硅 薄膜晶体管 栅交流应力 动态热载流子
中图分类号: 文献标识码: : /
TP394.1 A doi10.3788YJYX0091
Deradationbehaviorandderadationmechanismof
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bridedGrain olcrstallinesiliconthinfilm
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