氧化－界面在金属氧化中的作用研究报告.pptVIP

第二节　氧化——界面在金属氧化中的作用;一、金属氧化及其理论; 2. 金属氧化的经典扩散理论 ;当金属氧化过程受阳离子扩散控制时，可表示为 ;二、金属氧化的界面行为;1 金属与氧化膜界面的缺陷行为;;图4　氧化膜生长过程中相关截面示意图 ;氧化膜的生长可表示为;2 界面结构、化学组成与氧化膜的力学行为 ;图5 氧化膜剥落过程示意图;图5 氧化膜剥落过程示意图;三、界面与稀土活性元素效应;1 活性元素效应的微观机制 ;“界面毒化”模型(The Poisoned Interface Model，简称PIM) ;2 氧化膜晶界在氧化膜生长过程中的作用 ;图6 ?-A12O3膜中小角晶界上的位错簇;图7 Ni镀层（a）Ni-La2O3复合镀层(b)在1000℃氧化20h的表面NiO形貌;图8 Ni-La2O3复合镀层中夹杂的La2O3纳米颗粒;图9 (a) Ni-La2O3复合镀层在1000℃氧化5h后，用TEM观察到的近表面处的局部形貌像 (b) 是用该电镜上的EDX分析(a)中所示晶界及左右5点的微区成分获得的结果，可以看到La在NiO晶界的偏聚;3 RE对界面力学行为的影响 ; ;图11 离子注Y的Ni20Cr合金在1000℃氧化5h后观察到不同氧化物的TEM形貌 （a）NiO氧化物 （b）是（a）中部分三角晶界出现的裂纹的高倍 （c）NiCr2O4尖晶石