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目 录
PAGE 2
吉首大学
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硕 士 学 位 论 文
溅射参数对单层AZO和多层AZO/Cu/AZO薄膜性能的影响研究
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二0一二 年 五 月
分类号 密 级 公 开
U D C 单位代码
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吉首大学?
硕 士 学 位 论 文??
溅射参数对单层AZO和多层AZO/Cu/AZO薄膜性能的影响研究
Property Research AZO and AZO/Cu/AZO Thin Films Prepared by Radio-frequency Magnetron Sputtering
研究生姓名
指 导 教 师 教授
学 科 专 业 凝聚态物理专业
研 究 方 向 薄膜器件研究
提交论文日期 2012年4月10日 论文答辩日期2012年 月 日
答辩委员会主席 论文评阅人
二0一二年五月
目 录
TOC \o 1-3 \h \z \u 摘 要 6
Abstract 7
第一章 绪 论 1
1.1引言 1
1.2 氧化锌的基本性质 1
1.2.1 ZnO的晶体结构 2
1.2.2 ZnO的电学性质和光学特性 3
1.2.3 ZnO的能带结构 3
1.3 ZnO的应用 3
1.3.1透明导电薄膜 3
1.3.2发光器件 3
1.3.3紫外探测管 3
1.4 AZO/Cu/AZO多层透明导电薄膜的研究 4
1.4.1 TCO薄膜的种类 4
1.4.2 AZO/Cu/AZO多层透明导电薄膜的用途 4
1.5 本文主要研究目的和内容 4
第二章 透明导电薄膜的制备和表征手段 5
2.1 主要制备技术 5
2.1.1 磁控溅射技术 5
2.1.2 真空蒸发技术 7
2.1.3 PLD技术 8
2.1.4 溶胶凝胶技术 8
2.2 主要表征方法 9
2.2.1 表面轮廓仪 9
2.2.2 分光光度计 9
2.2.3 X射线衍射仪 10
2.2.4 四探针方阻仪 10
2.2.5 霍尔测试仪 11
第三章 单层AZO薄膜测试结果与讨论 12
3.1 引言 12
3.2 实验参数 12
3.3 实验参数对单层AZO薄膜性能的影响 13
3.3.1衬底温度对单层AZO薄膜薄膜性能的影响 13
3.3.2 偏压对AZO薄膜性能的影响 16
3.3.3后续退火对单层AZO薄膜性能的影响 19
3.2本章小结 19
第四章 AZO/Cu/AZO多层透明导电薄膜测试结果与讨论 21
4.1 引言 21
4.2 实验参数 21
4.3 溅射功率对AZO/Cu/AZO多层透明导电薄膜光电性能的影响 22
4.3.1 溅射功率对AZO/Cu/AZO多层薄膜的光学性能分析 22
4.3.2 溅射功率对AZO/Cu/AZO多层薄膜的结晶性能的影响 23
4.3.3 溅射功率对AZO/Cu/AZO多层薄膜的表面形貌影响 25
4.3.4 溅射功率对AZO/Cu/AZO多层薄膜的电学性能的影响 25
4.4 溅射压强对AZO/Cu/AZO多层薄膜光电性能的影响 27
4.4.1 溅射压强对AZO/Cu/AZO多层薄膜光学性能的影响 27
4.4.2 溅射压强对AZO/Cu/AZO多层薄膜结晶质量的影响 28
4.4.3 溅射压强对AZO/Cu/AZO多层薄膜电学性能的影响 30
4.5 本章小结 31
第五章 结 论 32
结束语 34
致 谢 35
作者在学术期间取得的学术成果 36
参考文献 37
摘 要
摘 要
近年来,ZnO薄膜材料在光电器件领域,获得了广泛的应用。ZnO材料作为一种禁带宽度达到3.3eV的半导体材料,具有晶格结构、光学和电学方面的诸多优点。并且相对于ITO薄膜,ZnO:Al(简称AZO)薄膜的电阻率更低、可见光透过率更高,并且由于原材料储量丰富,价格低廉,制备过程不会产生污染,因此有望在透明导电领域,成为ITO薄膜的替代者。磁控溅射技术,作为众多AZO薄膜制备技术中的一种,具有相对较高的均匀性和沉积
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