《chapter4卤代烷7245330》-公开课件(精选).pptVIP

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  • 2019-11-01 发布于广西
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《chapter4卤代烷7245330》-公开课件(精选).ppt

[ ] CH3 C CH2 …. …. CH3 CH3 断裂 形成 重排反应机理 ? 重排 一级碳正离子 三级碳正离子 重排产物 消除产物 内返 离子对外返 离子外返 紧密离子对 溶剂分离子对 游离离子 此时进攻得构型转化产物 此时进攻产物构型转化占多数 此时进攻得消旋产物 实例分析 旋光体 95%外消旋化 较稳定的碳正离子 40%水-丙酮 温斯坦 (S.Winstein) 离子对机理 定义: 如果反应体系中没有另加试剂,底物就将与溶剂发生反应,这时,溶剂就成了试剂,这样的反应称为溶剂解反应。 (CH3)3C-Br + C2H5OH (CH3)3C-OC2H5 + HBr 反应机理 ?+ ?- ? ? ?+ ?+ ?+ ?+ ? * * * 溶剂解反应速度慢,主要用于研究反应机理。 (5)溶剂解反应 3 影响亲核取代反应的因素 (1)烷基结构的影响 (2)离去基团的影响 (3)溶剂对亲核取代反应的影响 (4)试剂亲核性对亲核取代反应的影响 (5)碘负离子和两位负离子 (1)烷基结构的影响 烷基结构对SN2的影响 V V V V CH3X 1o RX 2o RX 3o RX R-Br + I- RI + Br - R:

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