NIKON NSR曝光文件的编辑.doc

Exposure File of NSR 1505g4d 前言 每一层图形的曝光，甚至每一块掩模版的加载，尼康系统都需要一个指定的文件：这些文件包括尼康厂家自制的测试用曝光文件，和各个产品各层曝光所使用的曝光文件。 同一产品的各层之间的套准是凭借设计在划片线中的标记图形来实现的，尼康软、硬件系统对标记图形的尺寸、形貌和分布都有要求；尼康软件系统必须按照曝光文件所指定的坐标去寻找标记。 由于不同产品的芯粒尺寸不等，由主芯粒和划片线（框架）共同组成的版图尺寸也就各不相同；也就是说，不同产品的掩模版上的图形区的大小不相等。对于NSR1505系列曝光系统，一般要求在加框设计时将曝光场尺寸设计在15毫米左右。 主芯粒的尺寸不同导致不同产品的划片线框架不同，设计在划片线内的标记的坐标位置也就不同：即在以掩模版的中心为原点的坐标系中，不同产品的标记坐标各不相同。 正因为图形区的大小不同，标记坐标的不同，所以通常情况下，每一套掩模版需要对应有一个曝光文件。 曝光文件是接触接近式光刻机、投影扫描式光刻机没有的项目，需要工艺人员编辑完成。 1.文件的内容 每一个曝光文件（File）由三个部分组成：分别为框架数据（File Frame）、版数据（Reticle List）、过程数据（Procedures）。 框架数据用于从整体上定义硅片上的曝光图形区的大小和位置。 版数据用于定义各层掩模版加载（和对准）过程中的具体参数；比如掩模版步进对准（RSA）显微镜的坐标。 过程数据用于定义硅片对准和曝光过程中的具体参数，比如套准标记的坐标，曝光阵列的排布。 版数据和过程数据分别由若干个版名和过程名组成，最多分别不能超过20个。版名与过程名的关系是：每一个版名需要指定一个对应的过程名，多个版名可以指定同一个过程名。 所以，每一个文件（需要给每一个文件定义一个文件名）中含有一个框架，多个版名和多个过程名；所有的文件名、版名和过程名都可以按照管理员的需要去命名，一般根据掩模版名称来命名。 2.框架数据的编辑 框架数据是整个文件的骨架。框架数据发生变动，会导致过程名数据“无序可依”，所以每次在对框架数据进行修改后，需要重新对所有该文件中的过程名进行相应的编辑：重新编辑过程名数据中的Shot Map一项（下文将详细讲解“Shot Map”）。 框架数据包括以下需要编辑的项目： Comment：用于对该文件的注释，比如产品名称等；可以不编辑； Wafer Size：圆片尺寸，单位是英寸，对于Nikon 1505系列光刻机，有3－6英寸四种； 硅片规格 默认直径mm 默认定位边mm 3 76.2 22.2 4 100.0 32.5 5 125.0 42.5 6 150.1 57.5 Step Pitch：步进长度，单位是微米(精确到0.01微米)，包括X和Y两个方向；要求X和Y之积不小于某特定值，4、5、6英寸圆片此下限值分别为10、16、23，单位：mm*mm；除此外，对于5英寸圆片，要求X小于15000微米，Y小于15700微米，同时要求步进矩形的对角线长度小于21000微米；通常情况下，根据产品掩模版上图形区的大小来定义步进长度的大小，而且一般设置步进矩形的大小恰好等于掩模版上的实际图形区投影缩小后的曝光场的大小（NSR1505系列的投影缩小比例为5:1），从而达到充分利用硅片面积：偏大的步进长度会使得相邻的曝光场之间留下空区，偏小的步进长度会使得相邻的曝光场有重叠。如图1： 光刻版 图1. 蓝色为版上图形区 5:1 透镜 硅片 红色为片上曝光场 步进路线 因为步进方向始终是水平或者垂直的，将以X和Y两个方向的步进长度所组成的矩形称为“步进矩形”，一旦步进长度的大小被指定，软件系统便将曝光矩形按照行列从硅片中间开始逐一排布（曝光矩形排布形成曝光矩阵，每一个曝光矩形称作一个阵点）；在硅片边缘，软件系统按照默认硅片直径和定位边（平边）的大