薄膜制备技术PVD.ppt

（2）射频辉光放电 指通过电容耦合在两电极之间加上射频电压，而在电极之间产生的放电现象。电子在变化的电场中振荡从而获得能量，并且与原子碰撞产生离子和更多的电子。 射频放电的频率范围：1-30MHz，工业用频率为13.56MHz 其特点是： 辉光放电空间产生的电子，获得足够的能量，足以产生碰撞电离，减少对二次电子的依赖，降低击穿电压 射频电压能够通过任何类型的阻抗耦合进去，所以，电极无需是导体，可以溅射任何材料 * ppt课件 （3）电磁场中的气体放电 在放电电场空间加上磁场，放电空间中的电子就要围绕磁力线作回旋运动，其回旋半径r=mv/eB，磁场对放电的影响效果，因电场与磁场的相互位置不同而有很大的差别。 * ppt课件 4. 溅射特性参数 （1）溅射阈值 （2）溅射率 （3）溅射粒子的状态、能量、速度 （4）溅射粒子的角分布 * ppt课件 4. 溅射特性参数 （1）溅射阈值： 使靶材料原子发生溅射所需的最小入射离子能量，低于该值不能发生溅射。大多数金属该值为10～20ev。 （2）溅射率： 正离子轰击靶阴极时平均每个正离子能从靶材中打击出的粒子数，又称溅射产额或溅射系数，S。 S = Ns / Ni Ni-入射到靶表面的粒子数 Ns-从靶表面溅射出来的粒子数 定义 * ppt课件 影响因素 ① 入射离子能量 * ppt课件 ② 靶材种