第10章-电子显微技术2.pptVIP

第一节透射电子显微分析Transmission Electron Microanalysis （TEM） 本节主要内容 一、透射电镜的结构 二、透射电镜的性能指标 三、透射电镜成像原理 四、样品制备 透射电镜是利用电子的波动性来观察固体材料内部的各种缺陷和直接观察原子结构的仪器。 在原理上基本模拟了光学显微镜的光路设计，可将其看成放大倍率高得多的成像仪器。 光学显微镜放大倍数在数十倍到数百倍，特殊可到数千倍。 透射电镜的放大倍数在数千倍至一百万倍之间，有些甚至可达数百万倍或千万倍。 一、 透射电镜的结构 透射电镜主要有 电子光学系统(镜筒):电子枪、聚光镜、物镜、中间镜和投影镜等电子透镜、样品室和荧光屏组成透射电镜的电子光学系统。 电源系统： 电子枪高压电源、透镜电源和控制线路电源等。 真空系统： 维持镜筒(凡是电子运行的空间)的真空度在10-4 Torr以上，以确保电子枪电极间绝缘，防止成像电子在镜筒内受气体分子碰撞而改变运动轨迹，减小样品污染等。 操作系统 电源系统、真空系统和操作系统都是辅助系统。 基于对机械稳定性的考虑，透射电镜的镜筒一般是直立积木式结构（自上而下）： 电子枪 聚光镜 样品室 物镜 中间镜 投影镜，荧光屏和照相装置。 通常将镜筒分为照明、成像及图像观察和记录三个系统。 照明系统：电子枪、聚光镜 成像系统：样品室、物镜、中间镜和投影镜 图像观察和记录系统：荧光屏和照相装置 1、 照明系统  照明系统的作用： ① 提供光源，控制其稳定度、照明强度和照明孔径角； ② 选择照明方式(明场或暗场成像)。 (1) 电子枪 :是透射电镜的电子源 因为电子枪决定了像的亮度、图像稳定度和穿透样品能力，所以相应地要求其亮度、发射稳定度和加速电压都要高。  最常用的加速电压为50~100kV 近来超高电压电镜的加速电压已达数千kV。 目前常用的电子枪是热阴极三极电子枪， 它由发夹形钨丝阴极、阳极和位于阴、阳极之间且电位比阴极负数百伏的栅极组成。 这是一种静电透镜，它能使阴极发射的电子会聚，得到一个小于100μm的电子束斑。 (2) 聚光镜:大多是磁透镜 其作用是将来自电子枪的电子束会聚到被观察的样品上，并通过它来控制照明强度、照明孔径角和束斑大小。 高性能透射电镜都采用双聚光镜系统。这种系统由第一聚光镜(强激磁透镜)和第二聚光镜(弱激磁透镜)组成。 第一聚光镜 的缩小倍数为10~50倍，它将有效光源强烈地缩小成1~5 ?m的光斑像。 第二聚光镜 缩小倍数约为1/2倍。这样，通过第二聚光镜在试样平面上形成直径约为2-10 ?m的光斑，显著地提高了照明效果。 2、成像系统 物镜、中间镜和投影镜现也都采用磁透镜。 它们和样品室构成成像系统，作用是安置样品、放大成像。 (1) 物镜 物镜是透射电镜的核心，它获得第一幅具有一定分辨本领的放大电子像。 这幅像的任何缺陷都将被其他透镜进一步放大，所以透射电镜的分辨本领就取决于物镜的分辨本领。 因此，要求物镜有尽可能高的分辨本领、足够高的放大倍数和尽量小的像差。磁透镜最大放大倍数为200倍，最大分辨本领为0.1nm。 物镜的球面像差一般通过在物镜背焦面径向插入物镜光阑，物镜的像散通常通过采用机械消像散器、磁消像散器或静电消像散器来减小。 (2)中间镜和投影镜 中间镜和投影镜的构造和物镜是一样的，但它们的焦距比较长。其作用是将物镜形成的一次像再进行放大，最后显示到荧光屏上，从而得到高放大倍数的电子像。这样的过程称为三级放大成像。 物镜和投影镜属于强透镜，其放大倍数均为100倍左右，而中间镜属于弱透镜，其放大倍数为0~20倍。三级成像的总放大倍数为： MT = MO MI MP  其中MO、MI、MP分别是物镜、中间镜和投影的放大倍数。 磁透镜可以通过改变电流来调节放大倍数。 一般通过将物镜和投影镜的放大倍数 MO、MP固定，而改变中间镜放大倍数 MI 来改变总放大倍数 MT。 3、 图像观察和记录系统 透射电镜中电子所带的信息转换成人眼能感觉的可见光图像，是通过荧光屏或照相底板来实现的。 人们透过铅玻璃窗可看到荧光屏上的像。 透射电镜，通常采用热阴极电子枪来获得电子束作为照明源。 热阴极发射的电子，在阳极加速电压的作用下，高速穿过阳极孔，然后被聚光镜会聚成具有一定直径的束斑照到样品上。 具有一定能量的电子束与样品发生作用，产生反映样品微区厚度、平均原子序数、晶体结构或位向差别的多种信息。 透过样品的电子束强度，其取决于这些信息 经过物镜聚焦放大在其平面上形成一幅反映这些信息的透射电子