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理想半导体:
1、原子严格地周期性排列,晶体具有完整的晶格
结构。
2、晶体中无杂质,无缺陷。
3、电子在周期场中作共有化运动,形成允带和禁带——电子能量只能处在允带中的能级上,禁带中无能级。由本征激发提供载流子
?本征半导体——晶体具有完整的(完美的)晶格结构,无任何杂质和缺陷。 ;;实际半导体(extrinsic):;杂质和缺陷对能带结构的影响:;
1 硅、锗中的浅能级和深能级杂质以及杂
质能级,了解浅能级杂质电离能的计算,了解杂
质补偿作用。
2 III-V族化合物主要是GaAs中的杂质能级。
3 了解缺陷、位错能级。;2.1.1替位式杂质、间隙式杂质; 间隙式原子的半径一般比较小。;碱金属原子在半导体尤其在Si中易扩散,引起器件
性能的恶化;金刚石型晶体结构中的两种空隙;单位体积中的杂质原子数--杂质浓度; 两种杂质特点:
间隙式杂质:原子一般比较小,
如:锂离子,0.068nm
替值式杂质时:
1)杂质原子的大小与被取代的晶格原子的大小比较相近
2)价电子壳层结构比较相近
如:Ⅲ,Ⅴ族元素
;2.1.2施主杂质、施主能级 Donor impurity and donor level;杂质:半导体中存在的与本体元素不同的其它元素。杂质出现在半导体中时,产生的附加势场使严格的周期性势场遭到破坏,可能在禁带中引入允许电子具有的能量状态(即能级)。;举例:Si中掺磷P(Si:P);施主杂质
V族元素在硅、锗中电离时能够释放电子而产生导电电子并形成正电中心,称此类杂质为施主杂质或n型杂质。
施主电离
施主杂质释放电子的过程。
施主能级
被施主杂质束缚的电子的能量状态,记为ED,施主电离能量为ΔED。
n型半导体
依靠导带电子导电的半导体。;施主杂质:束缚在杂质能级上的电子被激发
到导带Ec成为导带电子,该杂质电离后成为正电
中心(正离子)。这种杂质称为施主杂质。;杂质电离能:△ED=EC-ED ;2.1.3受主杂质、受主能级Acceptor impurity and acceptor level;;受主杂质
III族元素在硅、锗中电离时能够接受电子而产生导电空穴并形成负电中心,称此类杂质为受主杂质或p型杂质。
受主电离
受主杂质释放空穴的过程。
受主能级
被受主杂质束缚的空穴的能量状态,记为EA。受主电离能量为ΔEA
p型半导体
依靠价带空穴导电的半导体。;受主 电 离 能: △EA=EA-EV;(浅)杂 质 半 导 体;;在单晶生长过程中掺入杂质
在高温下通过杂质扩散的工艺掺入杂质
离子注入杂质
在薄膜外延工艺过程中掺入杂质
用合金工艺将杂质掺入半导体中;2.1.4 浅能级杂质电离能简单计算;正、负电荷所处介质的介电常数为:;估算结果与实际测 量值有相同数量级;2.1.5杂质的补偿作用;2.1.6深能级杂质;(1)浅能级杂质
; ;例1:Au(Ⅰ族)在Ge中;(1)Au+: Au0 – e Au+;(2)Au0;(3) Au一: Au0 + e Au一;(4) Au二:Au一 + e Au二;(5) Au三: Au二 + e Au三;金是I族元素
故可失去一个电子,施主能级略高于价带顶;
也可得到三个电子,形成稳定的共价键结构。但由于库仑力的排斥作用,后获得电子的电离能大于先获得电子的电离能。即EA3EA2EA1。
金在Ge中存在ED、 EA3、EA2、EA1四个孤立能级。;2.2 Ⅲ-Ⅴ族化合物中的杂质能级;I族元素
一般为引入受主能级,如银受主能级为(Ev+0.11)ev,(Ev+0.238)ev;金受主能级为(Ev+0.09)ev;替位式铜受主能级为(Ev+0.14)ev,(Ev+0.44)ev等
II族元素
价电子比III族元素少一个,有获得一个电子完成共价键的倾向。通常取代III族原子位于格点上,表现为受主杂质。
III,V族元素
掺入不是由他们本身形成的III-V族化合物,实验中测不到杂质影响。是电中性杂质,在禁带中不引入能级。
;等电子陷阱;1、N在GaP中:NP
2、C在Si中:CSi
其存在形式可以是
(1)替位式
(2)复合体,如 Zn-O
在磷化镓中,Zn原子代替Ga原子位置,O原子代替P原子位置,当两个杂质原子处于相邻晶格点时,形成一个电中性的Zn-O络合物;束缚激子;举例:GaAs中掺Si(Ⅳ族)
Ga:Ⅲ族 As:Ⅴ族
;
VI族元素
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