不同材料分析对辉光激发光源及工作模式和最佳选择.pptVIP

不同材料分析对辉光激发光源及工作模式和最佳选择.ppt

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辉光应用 辉光激发原理 激发原子由基态只跃迁至激发态(1级)再回到基态 辉光只检测元素的特征光谱 利用这些发射光谱的波长和强度可进行定性和定量分析 样品表面物质均匀逐层溅射,因此可进行表面逐层分析 在表面含量分析、浓度-深度关系应用方面快速,准确、分析成本低 辉光应用- 镀锌(铝)板 辉光应用 -镀锌(铝)板 ECISS/TC20(欧洲钢铁标准化委员会) ISO/TC201 欧盟标准(EN 10318:2002 ) ISO14707:2000 辉光应用 -镀锌(铝)板 Grimm型 辉光光源 罗兰圆(Rowland Circle)分光系统 真空型分光室用于用于紫外波长元素的检测(Vacuum chamber for UV Spectra) 原因:在工业环境条件下可满足快速、多元素、定量和表面粗糙试样分析的要求。 辉光仪器设计 GDS500A/GDS 850 A Bulk Analysis Quantitative Depth Profile Single or Dual DC / Rf Source 直流( DC)GRIMM型辉光光源 射频( RF)GRIMM型辉光光源 GRIMM型辉光光源 元素间的影响较低、可进行快速、多元素同时测定、可进行深度轮廓分辨分析。 工作时电流、电压直接加载在试样的分析面,其加载的电压、电流在传导过程中不会受到样品形状、大小等物理因素影响,因此不同试样间分析结果的重现性良好。 不同材料分析进行辉光放电光谱分析,要获得准确稳定的结果,光源的稳定是一个首要的因素,恒定的激发强度(Constant Emission Yield)是准确定量分析的前提条件 ,Grimm型的光源设计为光源稳定提供了硬件的保障 。 GRIMM型辉光光源 欧盟标准(EN 10318:2002)中均采用上述Grimm光源及恒定电压-电流的控制模式进行镀锌、铝板的定量表面逐层分析。 采用电压-电流的光源激发工作模式保证了恒定的激发强度的实现(真实等离子体激发TPP),从而可建立真正的多基体校正曲线(Multi Matrix Calibration),进行准确定量分析。 建立的校正曲线,可消除基体效应(Family Effect),提供可靠的多基体校正工作曲线,最终保证准确的逐层定量分析。 直流(DC)GRIMM型辉光光源 目前材料分析应用朝多样化发展,美国LECO公司的GDS-850A/GDS500系列辉光放电光谱仪提供直流(DC)、射频(RF)Grimm型两种光源选择或组合,以适应不同材料的分析要求。 对于金属材料的总量分析, 钢基(低、高合金钢等)、铁基(生铸、灰铸、球墨铸铁等)、铝基(高硅组成等)、铜基(黄铜、紫铜、铜铅合金等)、镍基、钴基、钛基、钨基(碳化钨等)、镁基、锌基、粉末金属、低熔点金属等。 直流(DC)GRIMM型辉光光源 金属材料的表面分析(尤其是镀锌、镀铝板的表面分析),配置直流(DC)Grimm型光源,操作简单、具有成熟的欧盟标准(EN 10318:2002),分析结果可依据相应的具体标准进行结果比对,判定、指导生产质量控制具有实际意义。 直流(DC)Grimm型光源的其他分析应用还有: 金属镀层(镀锡、铬、镍、铜、镉等) 表面热处理(渗碳、渗氮、碳氮共渗等) 表面复合铝板 PVD、CVD、离子喷涂、单一或复合涂层 直流(DC)GRIMM型辉光光源 直流(DC)GRIMM型辉光光源 近年来国外正逐渐开展纳米(nm)级薄膜和复合表面层的分析。 直流(DC)Grimm型光源由于其可快速稳定辉光等离子体的优势特点,稳定时间小于20毫秒,可进行2nm薄膜的定量表面逐层分析。 直流(DC)GRIMM型辉光光源 180层碳化硼-钛复合层,每层7nm厚 直流(DC)GRIMM型辉光光源 25层氮化钛-氮化铝复合层 射频(RF)GRIMM型辉光光源 美国力可公司GDS850A的 射频(RF)型Grimm光源的真实等离子体功率(TPP:Ture Plasma Power)专利设计,消除了射频功率损耗的各种因素,为该类材料的准确定量分析提供了保证。 金属材料表面的有机涂层、半导体材料表面、玻璃、陶瓷材料的发展、有机镀层的应用 射频(RF)GRIMM型辉光光源 美国力可公司GDS850A的 射频(RF)型Grimm光源的真实等离子体功率(TPP:Ture Plasma Power)专利设计,消除了射频功率损耗的各种因素,为该类材料的准确定量分析提供了保证。 金属材料表面的有机涂层、半导体材料表面、玻璃、陶瓷材料的发展、有机镀层的应用 射频(RF)GRIMM型辉光光源 射频功率损失的因素,主要包括: 射频吸收的损失(耦合过程、传导过程、样品本身、光源本身), 射频环境辐射的损失。 射频(RF)G

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