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§1.3 双极型晶体管 双极型晶体管是由三层杂质半导体构成的器件。它有三个电极,所以又称为半导体三极管、晶体三极管等,以后我们统称为晶体管BJT (Bipolar Junction Transistor) 。C集电极CPNBNPBB基极PNEE发射极1.3.1 晶体管的结构和类型PNP型NPN型集电极基极发射极CCICICBBIBIBIEIEEENPN型三极管PNP型三极管C集电极NPBN基极E发射极集电区:面积较大基区:较薄,掺杂浓度低发射区:掺杂浓度较高C集电极NPBN基极E发射极集电结Jc发射结JeCNRCBPNE1.3.2 晶体管的电流放大作用电流放大条件:内部条件:发射区掺杂浓度高;基区薄;集电区面积大 。外部条件:发射结正偏;集电结反偏。 NPN: VCVBVE PNP: VCVBVEVCCRBVBBC基区空穴向发射区的扩散可忽略IEP 。NRCBPIBENEIE发射结正偏,发射区电子不断向基区扩散,形成发射极电流IEN。一、晶体管内部载流子的运动VCC进入P区的电子少部分与基区的空穴复合,形成电流IBN ,多数扩散到集电结。RBVBBIC=ICN+ICBO?ICECICNICBONRCBPIBENEIE集电结反偏,有少子形成的反向电流ICBO。从基区扩散来的电子作为集电结的少子,漂移进入集电结而被收集,形成ICN。VCCRBVBBIC=ICN+ICBO ?ICNCICNICBONBVCCPIBNIBNRBEIEVBBIB=IBN+IEP-ICBO?IBN图 晶体管内部载流子运动与外部电流二、晶体管的电流分配关系外部电流关系: IE= IC +IB内部:在e结正偏、c结反偏的条件下,晶体管三个电极上的电流不是孤立的,它们能够反映非平衡少子在基区扩散与复合的比例关系。这一比例关系主要由基区宽度、掺杂浓度等因素决定,管子做好后就基本确定了。反之,一旦知道了这个比例关系,就不难得到晶体管三个电极电流之间的关系,从而为定量分析晶体管电路提供方便。 为了反映扩散到集电区的电流ICN与基区复合电流IBN之间的比例关系,定义共发射极直流电流放大系数为 其含义是:基区每复合一个电子,则有 电子扩散到集电区去。 值一般在20~200之间。 确定了 值之后,可得 式中: 称为穿透电流。因ICBO很小,在忽略其影响时,则有为了反映扩散到集电区的电流ICN与射极注入电流IEN的比例关系,定义共基极直流电流放大系数 为显然,1,一般约为0.97~0.99。不难求得 由于,都是反映晶体管基区扩散与复合的比例关系,只是选取的参考量不同,所以两者之间必有内在联系。由,的定义可得BJT的三种组态1.3.3 晶体管的共射特性曲线 晶体管伏安特性曲线是描述晶体管各极电流与极间电压关系的曲线,它对于了解晶体管的导电特性非常有用。晶体管有三个电极,通常用其中两个分别作输入、输出端,第三个作公共端,这样可以构成输入和输出两个回路。实际中,有图所示的三种基本接法(组态),分别称为共发射极、共集电极和共基极接法。其中,共发射极接法更具代表性,所以我们主要讨论共发射极伏安特性曲线。mA?AV1.3.3 晶体管的共射特性曲线ICIBVCCVRBUCEUBEVBB 实验线路一、共发射极输入特性共射输入特性曲线是以uCE为参变量时,iB与uBE间的关系曲线,即 典型的共发射极输入特性曲线如图所示。 UCE =0.5VUCE=0VIB(?A)UCE ?1BE(V)0.40.8一、共发射极输入特性工作压降: 硅管UBE?0.6~0.7V,锗管UBE?0.2~0.3V。 死区电压,硅管0.5V,锗管0.2V。二、共发射极输出特性曲线共射输出特性曲线是以iB为参变量时,iC与uCE间的关系曲线,即输出特性可以划分为三个区域,对应于三种工作状态。100?A480?A360?A240?A120?AIB=0312UCE(V)69当UCE大于一定的数值时,IC只与IB有关,IC=?IB。二、共发射极输出特性曲线IC(mA )此区域满足IC=?IB称为线性区(放大区)。1放大区e结为正偏,c结为反偏的工作区域为放大区。在放大区有以下两个特点:(1)基极电流iB对集电极电流iC有很强的控制作用,即iB有很小的变化量ΔIB时, iC就会有很大的变化量ΔIC。为此,用共发射极交流电流放大系数β来表示这种控制能力。β定义为反映在特性曲线上,为两条不同IB曲线的间隔。 (2) uCE变化对IC的影响很小。在特性曲线上表现为,iB一定而uCE增大时,曲线略有上翘(iC略有增大)。这是因为uCE增大,c结反向电压增大,使c结展宽,所以有效基区宽度变窄,这样基区中电子与空穴复合的机会减少,即iB要减小。而要保持iB不变,所以iC将略有增大。这种
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