化学工艺流程题含答案.pdf

2016 高三化学专题复习———工艺流程题 一、解题常用方法 化学工艺流程题结构一般包括题头、题干和题尾三部分。题头一般简单介绍以何种物质 (主要成分是什么、含什么杂质等，要注意一些关键信息 )为原料制备哪种物质，以及物质的 性质和用途。题干部分则是工业制备的简化工艺流程图。题尾部分则是根据工业生产流程中 涉及到的化学知识命题者精心设计的系列问题。对于学生解题需要的未学过的信息在三个部 分都有可能出现，审题时须全盘考虑。 二、解题基本步骤 （1）审题：划出重要信息 （2 ）分析流程： ①反应物是什么？②发生了什么反应？③该反应造成什么后果？④对制 造产品有什么作用？抓住一个关键点：一切反应或操作都是为了获得产品而服务。 （3 ）技巧：先答与流程无关的空 二、解题思维方向 化工流程题目在流程上一般分为 3 个过程 (1) 原料处理的方法和作用 ①研磨的目的： 增大接触面 积，加快溶解或加快反应速率。 ②酸溶、碱溶，水溶（酸浸、碱浸、水浸）——溶解 ③灼烧、 煅烧： 改变结构， 使一些物质在后续过程中易溶解， 并可使一些杂质 (如有机物 ) 在高温下氧化、分解。 (2) 分离提纯阶段的常考点 ①调 PH值除杂，控制溶液酸碱性使金属离子形成氢氧化物沉淀 例如：已知下列物质开始沉淀和沉淀完全时的 PH 如下表所示： 物质 开始沉淀 沉淀完全 Fe(OH) 3 2.7 3.7 Fe(OH) 2 7.6 9.6 Cu(OH) 2 4.7 6.2 2+ 2+ 若要除去 Cu 溶液中含有 Fe ，应该怎么做？ 2+ 3+ 3+ 2+ 提示：先用氧化剂把 Fe 氧化为 Fe ，再调溶液 PH 使 Fe 完全沉淀而 Cu 不沉淀。 注意：调 PH 所需物质一般应该满足两点： a.能与 H + 反应，使溶液 PH 增大 .b.不引入新 的杂质 1 流程： ②试剂除杂，要注意加入的是沉淀剂还是氧化剂（或还原剂） ③控制体系的温度 a．采取加热的目的： ；加速某固体的溶解，加 快反应速率； 减少气体生成物的溶解并使其逸出；使平衡向需要的方向移动；趁热过滤，防 止某物质降温时因析出而损耗或带入新的杂质。 b ．控制低温：防止物质的分解，如 NaHCO 3、 NH4 HCO3、 H2O2、HNO 3 (浓 )等；防止物质的 挥发，如盐酸、醋酸等；抑制物质的水解，如冰水洗涤，以防止洗涤过程中的溶解损耗；增 大气体反应物的溶解度，使其被充分吸收。 (3)获取产品阶段的常考点 ①洗涤： a.水洗， b.冰水洗， c.有机溶剂洗，其目的是： 。洗去目标物 表面的杂质离子；减少目标物的溶解损耗或增大有机杂质的溶解量；防止目标物形成结 晶水合物；使晶体快速干燥。 ②蒸发，反应时的气体氛围抑制水解，如从溶液中析出 FeCl 、AlCl 、CuCl 等固体，以防止 3 3 2 其水解