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Encircled energy ? Diffraction:点物的像面上,某个半径范围内包含的能量占整个能量的百分比 vs. 到主光线或像的质心的距离; ? Geometric:用光线-像面交点数目的方法计算园内能量; ?Line/Edge Response:计算线物或者边缘物(半无限大平面)的像的光强分布图的截面图; ?Extended Source:用扩展光源分析。 Illumination ? Relative Illumination:在均匀的Lambertian照明下,出瞳上相对照度 vs. radial y field 曲线; ? Vignetting Plot:渐晕光线比例 vs.视场角曲线; ? Illumination XY scan:扩展光源,沿像面截面照度的分布曲线; ? Illumination 2D surface:在一个二维面上计算扩展光源的照度分布的像。 Image Analysis Image Analysis实际上就是扩展光源成像分析。主要目的是显示物通过光学系统后的直观像。这个物可以是自定义,也可以是标准的24-bit彩色BMP或JPEG文件,可以是任何形状。 有三类image analysis: (1)Geometric using IMA file:适合看大视场的效果和大像差系统,如畸变; (2)Geometric using BMP file:同(1) (3)Diffraction using IMA file:适合看小视场和中等像差的系统效果,如外形边缘的衍射模糊。 Image Analysis ?Geometric Image Analysis:可以对扩展光源建模、分析分辨率、表示所成像的物的外貌及直观地看到像的旋转情况;用特殊的IMA or BIM文件。 ?Geometric bitmap Image Analysis:用RGB bitmap文件作光源,产生RGB彩色像。用几何光线追迹; ? Diffraction Image Analysis:基于Fourier光学,用OTF计算扩展光源的像的外观。OTF不变;这种方法考虑有限通带和其它在像面上与衍射有关效应。 ? Extended Diffraction Image Analysis:用OTF计算扩展光源的像的外观。 像面上不同视场上的OTF不同。 Miscellaneous ? Field Curvature:不同视场的场曲曲线;当前焦平面到近轴焦面的距离,纵轴为归一化视场,(S,T曲线之间的横向距离就是象散) ? Distortion:不同视场的畸变曲线; ? Grid Distortion:网格畸变图; ? Footprint Diagram:足迹图分析。光线在不同面上的分布情况图; ? Longitudinal Aberration:纵向像差,即球差。纵轴是归一化入瞳坐标,横轴是像面到光线与光轴交点之间的距离。仅用于旋转对称系统。 ? Lateral Color:横向色差,即垂轴色差(或放大率色差) Vs. 视场。仅用于旋转对称系统。 Miscellaneous ?Y-Ybar图:每个面上边缘光线高度 Vs.近轴斜入射主光线高度; ?Chromatic Focal Shift:彩色焦移曲线。后节距随波长的变化曲线; ? Dispersion Diagram:玻璃色散曲线。折射率 vs.波长; ?Glass Map:根据折射率和Abbe数画出的玻璃分布图; ? Int. Transmission vs. Wavelength:不同厚度的玻璃透过率情况。 Aberration coefficients Seidel Coefficients:显示每个面的Seidel系数,包括总的,横向的,纵向的和波像差的系数;只能适用于所有面都是standard surface的系统; Zernike Fringe Coefficients:用条纹多项式表示的Zernike系数,共37项; Zernike Standard Coefficients:正交的Zernike coefficients,共28项; Zernike Annular Coefficients:正交的Zernike coefficients,共22项; Calculations ?Ray Trace:单根近轴和真实光线追迹时,光线在各个面上的交点坐标(光线的方向余弦、角的正切、近轴边缘光线和主光线的夹角); ?Fiber Coupling Efficiency:计算单模光纤耦合系统的耦合效率。 ?YNI Contributions:列出每个面的近轴YNI(Y:近轴像高;N:折射率,I:入射角)贡献值;拉赫不变量。 ? Sag Table:列出所选面上,距
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