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- 2020-02-20 发布于辽宁
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第1章 绪 论 1)描述现在的经济状态和半导体产业的技术根基。2)解释什么是集成电路。3)解释什么是特征尺寸,并理解摩尔定律如何预测未来硅片制造发展。4)描述自晶体管发明到现代硅片制造的不同电子时代。 第1章 绪 论 1.1 微电子科学技术的发展历程1.2 微电子学的特点 1.1 微电子科学技术的发展历程 1.1.1 晶体管的发明 图1-1 世界上第一个晶体管的照片(最原始的点接触型晶体管) 1.1 微电子科学技术的发展历程 图1-2 发明晶体管的三位科学家在实验室中的合影 1.1 微电子科学技术的发展历程 图1-3 基尔比发明的世界上第一块集成电路 1.1.2 集成电路的发展历史及规律 1.1 微电子科学技术的发展历程 图1-4 2000年基尔比获得诺贝尔物理学奖 1.1 微电子科学技术的发展历程 图1-5 集成电路规模按摩尔定律发展的趋势 1.1 微电子科学技术的发展历程 目前国际的规模化生产是45nm工艺,我国的规模化生产是90nm工艺,65nm工艺线即将在2010年投产。 表1-1 2007年集成电路技术发展节点(Roadmap) 1)集成电路的特征尺寸向深亚微米发展, 1.1 微电子科学技术的发展历程 图1-6 摩尔定律下集成电路特征尺寸变化规律 2)晶圆尺寸的增加。 3)随着集成电路的规模、速度、复杂度、制造成本的不断提高,集成电路设计能力出现了滞后现
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