c395-95中文版-抗化学树脂砂浆的标准规范.docVIP

c395-95中文版-抗化学树脂砂浆的标准规范.doc

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C 395 PAGE 220 Designation: C 395 - 95 编号: C 395 - 95 PAGE 217 Standard Specification for Chemical-Resistant Resin Mortars This specification is under the jurisdiction of ASTM Committee C-3 on Chemical-Resistant Nonmetallic Materials and is the direct responsibility of Subcommittee C03.02 on Mortar and Monolithics. 本试验方法归ASTM负责耐化学非金属材料 This specification is under the jurisdiction of ASTM Committee C-3 on Chemical-Resistant Nonmetallic Materials and is the direct responsibility of Subcommittee C03.02 on Mortar and Monolithics. 本试验方法归ASTM负责耐化学非金属材料的C-3委员会管辖,并由C03.02砂浆和石材分委会直接负责。 Current edition approved Sept. 10, 1995. Published November 1995. Originally published as C 395 - 57 T. Last previous edition C 395 - 90. 现行版本批准于1995年9月10日。出版于1995年11月。最初以C 395 – 57 T编号出版。此前最后版本号为C 395 – 90。 This standard is issued under the fixed designation C 395; the number immediately following the designation indicates the year of original adoption or, in the case of revision, the year of last revision. A number in parentheses indicates the year of last re-approval. A superscript epsilon (ε) indicates an editorial change since the last revision or re-approval. 本标准以固定编号C 395刊发;紧随编号后的数字表示最初采用的年份,或者是修订版的最后修订年份。圆括号中的数字表示最新重新批准的年份。上标(ε)表示自上一修订版或重新批准后的编辑性修改。 1. Scope适用范围 1.1 This specification covers the requirements for chemical-resistant resin mortars for bonding chemical-resistant brick or tile. Mortars of this group generally have better physical properties and resist a wider variety of chemicals than inorganic mortars. For the use of these materials, see Practice C 399. 本规范涵盖对用于粘结抗化学砖或瓦的抗化学树脂砂浆的规定。属于这一类别的砂浆通常比无机砂浆物理性能更加优越且抗御的化学品的侵蚀范围更加广泛。对这些材料的使用,参见C 399规范。 Note 1 —Resin mortars and grouts are differentiated as follows: resin mortars are troweled onto the brick or tile, generally in a 1/8-in. (3-mm) thickness before the brick are laid in place (buttering or bricklayers method). Resin grouts are applied to the joints, generally 1/4 in. (6 mm) wide, after the brick or tile are set in

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