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蒸镀机的运用流程-1.ppt

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亚纳科技(深圳)有限公司 蒸镀机的运用与流程 evaporation的运做可分为10大类 一.真空蒸镀原理 二.蒸镀所运用产业 三.真空定义 四.結構系统 五.机械的运用与原理 机械的运用与原理 机械的运用与原理 七.电脑操作(抽气画面) 电脑操作(流程画面) 1.粗抽灯亮,表示粗抽流程已完成,且主画面“细抽灯亮 起,表示细抽流程正在运行,Polycold冷却自动启动 2.当桶身真空度达到电子枪真空度时,电子枪面板“VAC灯 3.电子枪高压被启动,开始蒸镀 4.当蒸镀完成后,根据电脑之设定参数,进行泄气流程 5.泄气灯亮起,ROTA OFF 6.HV OFF系统画面“HV”灯熄,待阀门关闭定位后,坩面 面polycold除霜自动开启 7.除霜完成后,执行桶身泄气动作 电脑操作(泄气画面) 六.evaporation运做流程 evaporation运做流程 八.异常与处理 九.保养事项 十.注意事项 注意事项: 1.开机前,确认所以电源是否接好,开启 2.检查(DP)进水,回水压力是否正常(4-6KG) 回水阀有无全开 3.开启(DP)时需要预热30分钟,温度需要达到210℃,才可以进行抽气 4.检查PD RP 油位是否正常,有无变质 5.早晚班交接班時須小清機,全面更換艙內的鋁箔紙,清潔電子鎗坩鍋 6.電鍍每周需大清機一次(噴砂→高壓水槍沖洗→乾燥→酒精擦拭) 结 论 蒸镀优点: 1.能在金属、半导体、绝缘体表、金属、半导体、绝缘体、不同成分 比的合金,化合物及氮化物等薄膜,其适用范围之广是其它方法无法 与之比似的 2.可以设定不同的沉积速率,不同的基板温度和不同的蒸气分子蒸镀成 膜,因而可得到不同的显微结构和结晶形态(单晶,多晶或非晶等) 的薄膜 3.薄膜的纯度很高,易与在线检测和控制膜厚与成分,膜厚控制精度 最高可达分子层级 4.排出污染物很少,且基本上没有 谢谢观赏!!! 杨 敏 2009/12/23 * * 一.蒸镀原理 二.运用产业 三.真空定义 五.机械的运用 六.電腦操作 四.結構系统 十.注意事项 九.机台保养 八.异常与处理 七.運作流程 蒸镀 是指将蒸镀源(镀层的材料來源)加热蒸发直接凝结于工件表面而形成镀层。 1) 应用 金属與元素半导体的镀膜 合金的蒸镀 砷化镓,娣化銦等化合物的蒸镀 2) 蒸发 金属蒸发或氣化的方法很多,包括利用热电阻,輻射,感应,电子束,电弧等方式加热。蒸镀时,基材則属于基能。 蒸镀试图如下: 光学眼镜 车载导行 电脑 手机 一个容器内空间的压力小于大气压就是真空,也可以说若容器内气体分子密度小于2.5*10Torr/CM3(一大气压分子的密度)侧该容器内为真空,简单的表示为:压力﹤大气压力; 真空度代表真空系统中压力的程度,一般分为: 粗略真空: 760--1Torr 超高真空: 10ˉ7-10ˉ10 极高真空: 10ˉ10 Torr以上 高真空 : 10ˉ3-10ˉ7 Torr 中度真空: 1-10ˉ3 Torr 自然 真空 人造 真空 6.供气系统: 系统制程使用超高纯度氩气 氧气; 纯度:(99.999%); 3.空压系统: 空压压力需在(4KG/CM2以上) 5.抽气系统: 检查(DP)温度是否达到220 ℃, RP动作—FV动作—DP动作 2.制冷(水)系统: 系统需要制冷机,帮浦使冰水循环,水温需要在(18~20℃)水压要在(3KG/CM2以上)冰水使用在扩散帮浦及真空腔壁,电子枪之冷却; 4.镀源系统: 系统封合真空前,确认电源是否接妥,冷却水的水压是否正常(3Kg/CM2)水温是否正常。 1.电源供应系统: 开机前确认电源是否正常开启(330V),系统务必适当接地(≤10欧姆) 1.RP(回转帮浦)原理: 油封式真空帮浦是以油体当做活塞,叶轮转动时,油体被抛向外围形成移动的油封环,油封环内部中空,因为叶轮相对於机体是偏心运转,因此叶轮转

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