硅片的清洗与制绒一次清洗培训材料修改稿知识分享.pptVIP

* 硅片清洗与制绒 绒面形成最终取决于两个因素： 腐蚀速率及各向异性 腐蚀速率快慢影响因子： 1、腐蚀液流至被腐蚀物表面的移动速率； 2、腐蚀液与被腐蚀物表面产生化学反应的反应速率； 3、生成物从被腐蚀物表面离开的速率。 单晶制绒 * 硅片清洗与制绒 具体影响因子： NaOH浓度 溶液温度 异丙醇浓度 制绒时间 硅酸钠含量 槽体密封程度、异丙醇挥发 搅拌及鼓泡 单晶制绒 * 硅片清洗与制绒 NaOH浓度对绒面形貌影响： NaOH对硅片反应速率有重要影响。制绒过程中，由于所用NaOH浓度均为低碱浓度，随NaOH浓度升高，硅片腐蚀速率相对上升。与此同时，随 NaOH浓度改变，硅片腐蚀各向异性因子也发生改变，因此， NaOH浓度对金字塔的角锥度也有重要影响。 单晶制绒 85oC，30min， IPA vol10% * 硅片清洗与制绒 NaOH浓度对绒面反射率影响： 单晶制绒 * 硅片清洗与制绒 温度影响： 温度过高，IPA挥发加剧，晶面择优性下降，绒面连续性降低；同时腐蚀速率过快，控制困难； 温度过低，腐蚀速率过慢，制绒周期延长； 制绒温度范围：75-90oC。 单晶制绒 * 硅片清洗与制绒 IP