第10章工艺集成.pptxVIP

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  • 2020-06-10 发布于浙江
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集成电路制造工艺;第10章 工艺集成;;§10.1 集成电路中的隔离;LOCOS工艺流程;;;LOCOS工艺的缺点;改进的LOCOS工艺;浅槽隔离(STI);STI工艺流程;STI工艺流程;SOI技术介质隔离;二.双极型电路中的隔离;§10.2 CMOS集成电路中的工艺集成;CMOS工艺中的基本模块及对器件性能的影响;单阱;双阱;自对准双阱工艺;CMOS集成电路中的栅电极(Gate);高k栅介质及金属栅;CMOS集成电路中的源漏结构;轻掺杂源漏(LDD)结构;LDD工艺流程;;晕环注入(halo implantation);自对准结构和接触;CMOS IC工艺流程;§10.3 双极型集成电路的工艺集成;;§10.4 BiCMOS的工艺集成;;小结;;1、有时候读书是一种巧妙地避开思考的方法。5月-205月-20Sunday, May 24, 2020 2、阅读一切好书如同和过去最杰出的人谈话。12:57:5212:57:5212:575/24/2020 12:57:52 PM 3、越是没有本领的就越加自命不凡。5月-2012:57:5212:57May-2024-May-20 4、越是无能的人,越喜欢挑剔别人的错儿。12:57:5212:57:5212:57Sunday, May 24, 2020 5、知人者智,自知者明。胜人者有力,自胜者强。5月-205月-2012

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