表面电浆增益奈米金属薄膜分析研究.pdfVIP

一、前言： [1] 自從 1904年，Wood 發現電磁波入射在刻有光柵(grating)的金屬 表面上，會產生異常的反射光譜之後，對於介電物質與金屬介面的電 磁波交互作用，便一直是許多人很感興趣的研究課題，再加上近年來 奈米科技的發展，更促進了這方面各種新現象與特性的研究，以及新 穎應用的廣泛發展。另一方面，在光學薄膜製程中，以往傳統的薄膜 技術發展已趨於成熟且應用廣泛，然而將之與奈米尺度的技術結合所 發展出的獨特特性與應用是近年來所重視的部分 。 光學薄膜在奈米等級的尺度下，在金屬薄膜上製作奈米級的週期 [2,3] 性孔洞時 ，當孔洞的 週期小於入射光的光波長時，入射的零階光 會有異常高的 穿透率，讓原本不透光的金屬薄膜，在特定波長範圍內 有很高的穿透率，此即所謂的金屬表面電漿(surface plasma)現象。一 般認為造成這種特殊現象的原因是和入射電磁波與金屬表面電漿的 耦合共振相關聯。由於表面電漿共振現象可以製作出具有可調變波段 [4,5] 和高穿透率的導電薄膜，並可以應用在新穎的光電元件中 ，故近 年來引起熱烈的討論。 此次計畫即是利用嚴格耦合波分析(Rigorous Coupled-Wave Analysis ,RCWA)的方法來模擬光垂直入射光子晶體結構後的穿透率和 反射率。探討一維光子晶體結構的空氣層厚度和入射光波長對於穿透 率的改變。 二、研究理論 ： 由於傳統的繞射理論為純量的型式，當我們考慮的結構的週期大 小與入射波長接近時，即必須發展出用向量型式的繞射理論利用馬克 斯威爾方程式，及更嚴謹的邊界條件來分析，而嚴格耦合波分析 [7] (RCWA即可解決這類問題。過去幾十年以來，嚴格耦合波分析) 早 已被廣泛利用於精確地分析電磁場經過週期性結構的繞射結果，其週 期性結構包含了全像平面光柵(planar holographic grating) 、一為 或 二維的金屬與介電質週期結構，還有非均向光柵(anisotropic grating)等。 首先，考慮一個具有一維週期結構的光柵如下圖： 圖一 一維週期結構光柵 假設光柵外的折射率為 n1 ，光柵內的折射率為n2 。其中d為光柵的深 度，f為光柵週期裡 n所佔有的比例，Λ為光柵週期，θ為入射光與2 z軸的夾角。若把光柵分成三個區域，光柵上方為 Region 1 ，光柵部 分為Region 2(0＜z＜d) ，而光柵下方為Region 3 。由於Region 2 裡的折射率為一週期函數： (1) (1) 接著將此區域的相對介電常數用傅立葉級數展開表示成 (2) 由上述兩條式子利用相對介電係數與折射率的關係 ( )經過計 算後可得到第 h級的傅立葉參數( )如下： (3) 在此的 為相對介電常數的平均值，而不是真空中的介電常數。 為了解此繞射光柵的電磁邊界值問題 (electro-magnetic boundary-value problem) ，我們必須找出分別在Region 1, 2, 3滿足馬克 斯威爾方程式的解，接著使邊界上切線方向的電場