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水热法制备 ZnO 纳米结构及其应用 摘 要 纳米结构的 ZnO 由于具有优异的光、电、磁、声等性能，已经成为光电、化学、催 化、压电等领域中聚焦的研究热点之一。不同纳米结构的 ZnO 其制备方法多种多样，本文 着重综述了水热法制备 ZnO 纳米结构，并探讨了 ZnO 纳米结构的生长机理和调控，同时展 望了 ZnO 纳米结构在各领域中的最新应用。 关键词 ZnO 纳米结构 水热法 生长机理 生长调控 应用 引言 氧化锌是一种宽禁带直接半导体材料，室温下其禁带宽度为 3.37 eV，激子 束缚能为 60 meV，可以实现室温下的激子发射，产生近紫外的短波发光，被用 来制备光电器件，如紫外探测器、紫外激光器等。另外 ZnO 还具有很好的导电、 导热和化学稳定性能，在太阳能电池、传感器和光催化方面有广泛的应用前景。 因此成为国际上半导体材料研究的热点之一。而一维半导体材料更由于其独特的 物理特性及在光电子器件方面的巨大潜力，备受人们的关注[1, 2] 。将纳米ZnO 用 [3] 于电致发光器件中对提高器件性能很有帮助 。在基底上高度有序生长的ZnO [2] [4] 纳米结构可制作短波激光器 和 Graetzel 太阳能电池电极 ，成为人们的研究热 点。 [5] 目前国内外研究者已成功地合成了多种ZnO 纳米结构：Huang 等 制备出的 ZnO 纳米铅笔状结构具有尖端和高的比表面积，有望用于场发射微电子器件方面； [6] [7] 杨培东 、Shingo Hirano 小组分别用气相传输法和水热法合成的 ZnO 纳米线阵 [8] 列表现出室温紫外激光发射行为，可用来制备紫外纳米激光器；张立德 研究小 组用简单的热蒸发方法得到了一种 ZnO 纳米薄片状结构，可用于纳米传感器方 面。 另外，研究者还制备出 ZnO 纳米环、纳米带、纳米花和多足状等结构。 合成 ZnO 纳米结构的方法多种多样，主要有气相沉积法、模板法及催化助 溶法、电化学法，其它还有诸如沉淀法、溶胶-凝胶法、多羟基化合物水解法等。 近年来水热法制备 ZnO 纳米结构成为了研究者关注的热点，与其它方法相比， 水热法具有设备简单，反应条件温和，可大面积成膜，工艺可控等优点。 1.水热法制备 ZnO 纳米结构简介及研究新进展 1.1 水热法制备 ZnO 纳米结构简介 水热法是指在特制的密闭反应器(高压釜) 中，采用水溶液作为反应体系，通 过对反应体系加热加压(或自生蒸汽压) ，创造一个相对高温、高压的反应环境， 使通常难溶或不溶的物质溶解，并且重结晶而进行无机合成与材料处理的一种方 法。经过十多年的发展，水热法逐步发展成为纳米材料制备最常用的方法之一。 由于水热法自身的优点和特殊性，在科技高度交叉的21 世纪，水热法已不再局 限于晶体生长，而是跟纳米技术、地质技术、生物技术和先进材料技术息息相关， 水热法的研究也向深度与广度发展。 目前很多的水热法合成ZnO 纳米结构采用在 75~250℃的密闭容器中进行。 采用的试剂为锌盐、碱或氨水、表面活性剂或分子模板(如乙二胺)等。在这样的 [9] 低温和简单设备下，同样也得到了质量很好的不同形貌的 ZnO 单晶 。 水热法合成 ZnO 纳米结构引起人们广泛关注的主要原因是：(l)水热法采用 中温液相控制，能耗相对较低，适用性广，既可用于超微粒子的制备，也可得到 尺寸较大的单晶。(2)原料相对廉价易得，反应在液相快速对流中进行，产率高、 物相均匀、纯度高、结晶良好，并且形状、大小可控。(3)在水热过程中，可通 过调节反应温度、压力、处理时间、溶液成分、pH 值、前驱物和矿化剂的种类 等因素，来达到有效地控制反应和晶体生长特性的目的。(4)反应在密闭的容器 中进行，可控制反应气氛而形成合适的氧化还原反应条件，获得某