光刻胶分类与效果全解.pptVIP

LED光刻及相关工艺技术 1.光刻工艺中的基本知识 2光刻工艺中的常用技术 (1)光刻胶的热特性及其重要性 (2),金属剥离技术-Lift-off metal和PR的厚度比;PR的断面形状;底层金属 的粘付性;溶胶法和蓝膜粘离法;EB设备. 3)半球形胶面的制备及应用 (4).底胶的去除问题 (5)其它 3.与光刻工艺相关的其它技术 1.图相转移技术(光刻)的基本知识: 光刻工艺是指将掩膜版上的图形转移到 衬底表面光刻胶上的技术 要求高精度 尺寸转移,确定光刻工艺条件,必须以图形尺 寸变化量的大小为重要依椐之一 衍射是影响图形尺寸变化的重要原因。 光源: 汞灯:e线—546nm 强度承灯的发射光 线 406nm 1 g线—436nm 线—365nm UV--248nm EB—埃量级 最小特征尺寸:△L=K1A/NA A(波长),NA(透镜的数值孔径)|2叫 K1与工艺参数有关(一般取075) 0 要注意光刻胶所要求的 光源波长;短波长适用于 小尺寸 图147美型的高压汞灯的发射光 承蒙 USHIO Specia ty Lig nting Products公司允许使用) NA(数值孔径): 对于一个理想的镜头系统,图像的质量仅仅受到由 于NA的大小有限而造成衍射光不能通过镜头 透镜收集衍射光并把这些衍射光会聚到一点成像的能力用 数值孔径来表示。 NA≈(n)透镜的半径/透镜的