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- 2020-07-21 发布于福建
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第一拼
羋辱体集电路设计流程
目录
1VLS工设计及发展特点
2集成电路设计与制造的主要流程
3集成电路设计分类
4数字集成电路设计流程
5模拟集成电路设计流程
6V制造工艺
1VLSI设计及发展特点
集成电路设计是将设计人员头脑中的概念转换成半导
体工艺生产所需要的版图。
几何结构
主路结
模块架构
算法
草案
应用
集成电路的发展特点
2000年代以来,集成电路工艺发展非常迅速,已从深
亚微米(O.18到0.35微米)进入到超深亚微米(90,65,
45,32纳米)。其主要特点:
特征尺寸越来越小45nm以下
芯片尺寸越来越大,12英寸,已有36英
单片上的晶体管数越来越多,上亿
时钟速度越来越快
电源电压越来越低
布线层数越来越多,
I/O引线越来越多
2集岚宅路熃计与制造的至要流程
应用需求
系统设计
芯片测试
「数字电路
芯片封装「市场上
地壳中的硅元素
丰富多
沙石
彩的集
成电
芯片检测
提取粗硅
晶圆切割晶圆
芯片制造工艺流程
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