表面化学分析—电子能谱—X射线光电子能谱峰拟合的最低报告要求(技术标准).pdfVIP

GB/T XXXXX—XXXX 表面化学分析 电子能谱 X 射线光电子能谱峰拟合最低报告要求 1 范围 本标准的目的是确定如何进行峰拟合以及报告 X 射线光电子能谱中峰拟合的结果。本标准适用于 单个谱图或例如在深度剖析测试中可能获得的一组相关谱图的拟合。本标准提供了一个如果要实现可再 现的峰拟合或者要拟合多个谱并进行比较时应报告的参数列表。本标准不提供峰拟合说明，也不提供应 采用的拟合方法。 2 术语和定义 本标准中的术语和定义依照ISO 18115及以下叙述。 2.1 非弹性本底 （background, inelastic） 粒子在谱图中的强度分布，具有某一初始能量的粒子由于一个或多个非弹性散射过程而以较低的能 量发射。 [来源: ISO 18115-1, 4.50] 2.2 Shirley 本底 （background, shirey） 用于拟合该峰或目标峰在较高与较低动能处所测谱图的计算本底，在给定动能处的本底贡献与较高 动能处本底之上的总峰面积成固定比例。 [来源: ISO 18115-1:2010, 4.54] 2.3 Tougaard 本底 （background, Tougaard） 由微分非弹性散射截面模型获得的强度分布，该截面与表面区域发射原子的能量损失及三维分布相 关。 [来源: ISO 18115-1:2010, 4.57] 2.4 通能 （pass energy） 在能量分析器的能量色散部分所探测粒子的平均动能。 [来源: ISO 18115-1:2010, 4.325] 2.5 峰拟合 （peak fitting） 1 GB/T XXXXX—XXXX 调整峰合成所得谱图与测量谱图相匹配的程序。 2.6 峰合成 （peak synthesis） 使用模型或实验峰形生成合成谱图的程序，通过调整峰的数量，峰宽，峰位，峰强以及本底形状与 强度来进行峰拟合。 [来源: ISO 18115-1:2010, 4.329] 2.7 残差谱 （residual spectrum） 实验采集谱图与合成谱图之差。 3 符号和缩略语 3.1 缩略语 BE: 结合能 (binding energy) eV: 电子伏特 (electron volt) FWHM:半峰全宽 (full width at half maximum) L/G: 包含高斯与洛伦兹函数之和的伪Voigt 峰的洛伦兹组分与高斯组分的强度比 PE: 通过能 (pass energy) XPS: X 射线光电子能谱 (X-ray photoelectron spectroscopy) 3.2 符号 2 2 χmin : χ 最小化之后的值 χ2 : 卡方 σa : 某一峰的结合能的标准偏差 ci : 在扣除本底之前通道i 的总计数 i: 谱仪中的通道数 M: 拟合过程中使用的可单独调整的参数的数量 N：在被拟合谱图部分能量通道的数量 ri：在通道i 中的谱残差（由总计数获得，而不是每秒计数） ∆a：在估算峰位的不确定度过程中峰位变化的能量（相比于产生最小卡方值的峰位） ∆h：在估算峰强的不确度过程中峰高变化的量（相比于产生最小卡方值的量） ∆w：在估算峰宽的不确度过程中峰宽变化的量（相比于产生最小卡方值的量） 4 相关数据采集参数报告 4.1 概述 本条款适用于可能影响谱图中峰形、峰包络线或者本底的仪器参数。这些参数会影响定义拟合谱图 的参数，因此，应予以报告。 2