2016大创结题PPT陈煜.pptVIP

钯-硅薄膜表面偏析的研究Surface segregation in Pd-Si thin film 项目成员：陈煜 邹永恒 杨士栋 黄立豪 指导老师：王江涌教授 报告人：陈煜 1 应用价值 研究背景 项目内容 研究成果 目录 2 研究背景 Pd-Si薄膜 Pd-Si薄膜：金属硅薄膜： 在半导体器件领域的广泛应用（欧姆接触、肖特基接触、互连线等） 在加工工艺中具有兼容性和制造简易性等优势 目前Pd-Si薄膜研究的主要方向：Pd-Si界面的化学键和反应、Pd-Si系统的相变等 Pd-Si薄膜表面偏析研究的意义： 更好的应用Pd-Si薄膜材料 薄膜材料的性能主要由材料成分、显微组织、相结构和界面状态所决定，而这些均与表面处理技术和工艺有关。因此，分析薄膜材料的上述因素与其性能、处理工艺之间的关系，是提高工艺水平、保证薄膜质量的重要途径。 Pd-Si薄膜 3 项目内容——理论理解及应用 修正的Darken模型 考虑薄膜尺寸效应约束条件 主要对Pd-Si薄膜系统的平衡态和动态表面偏析进行了模拟计算 4 项目内容——理论理解及应用 5 项目内容——修正的Darken模型 假设： 1.系统为封闭体系 2.表面区域有限而体相无限 3.原子可以在表相和体相之 间互相交换，以达到体系 能量最小 6 项目内容——修正的D