折射率渐变无机高分子薄膜研究.pptVIP

月录 工旦m 研究背景 2研究过程和结果 3 研究难点 研究总结 1.研究背景 工荠 三倍频化学膜的不足 随着激光器的发展,化学膜目前的透过率将不能满足使用要求。需要一种 三波长化学膜,即化学膜在三倍频,二倍频和基频的透过率均达到9.5% 以上。 前化学膜的技术指标 将来化学膜的技术指标: T35m≥99.5% T3stm≥99 T527m≥97% Tnm≥99 T1o0s7m≥95% T1osnm≥99.85% 1.研究背景 工荠 折射率渐变膜层的提出 影响膜层透过率的两个重要因素:折射率和厚度。 三倍频化学膜的理论计算:膜层折射率为1.2,厚度为75nm。与实验结果一致, BSG、聚焦透镜、真空隔离片和屏蔽片上的化学膜为此种类型化学膜 1.研究背景 工荠 折射率渐变膜层的提出 影响膜层透过率的两个重要因素:折射率和厚度。 基频化学膜的理论计算:膜层折射率为1.2,厚度为220nm。与实验结果一致, CPP上的化学膜为此种类型化学膜。 1.研究背景 工荠 折射率渐变膜层的提出 影响膜层透过率的两个重要因素:折射率和厚度。 如果膜层折射率渐变,膜层厚度为450mm,将实现我们需要的三波长增透化学膜。 2研究过程和结果 工荠 膜层折射率渐变的控制 膜层折射率率与膜层孔隙率成函数关系 77t 1-p)+p 其中,nulv为膜层折射率,n1为材料折射率,p为材料空隙率 501D1520025030030400450500 厚度m 膜层折射率连续渐变的关键是膜层孔隙率连续渐变。 2研究过程和结果 工荠 膜层的制备过程 胶体镀膜 热处 配制 热处理的目的是使膜层中形成活性点,便于定向蚀刻;定向蚀刻的目的是 使膜层中形成渐变的孔,从而形成渐变折射率,达到三波长增透的目的。 2研究过程和结果 工荠 热处理过程 热理前 热处理后 甚片 膜层透过率峰值不变,峰数减少,说明膜层折射率不变,厚度减小。采用 椭偏仪测量了膜层厚度和折射率,热处理前膜层厚度为600nm,折射率 为1.420;热处理后膜层厚度为485nm,折射率为1.415 2研究过程和结果 工旦m 刻蚀过程 刻蚀后膜层的透过率由双峰变成单峰,峰值透过率明显提高 2研究过程和结果 工旦m 刻蚀过程 刻蚀后膜层的透过率指标为:T351=99.0%;T52=99.7%;T1053=98.0%;膜层在基 频与二倍频透过率提高,但是三陪频透过率有所降低,与目标值和设计值有差距。