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相位式TOF深度探测器的像素设计与优化
摘 要
最近几年,3D 成像技术正成为智能传感器领域最为热门的研究方向之一,
特别是苹果公司发布配备有散斑结构光进行3D 人脸建模和解锁的iPhoneX 后,
3D (Indirect
掀起了国内外厂商对新一代 成像技术的研究热潮。相位式飞行时间法
Time-Of-Flight,I-TOF)是新一代3D 成像技术的一个分支,其采用CCD/CMOS
图像传感器配合周期性调制激光进行探测,伴随着CMOS 图像传感器工艺
CMOSImageSensor CIS
( , )的飞速发展和改善,相位式飞行时间法相较于其
他3D成像技术,比如双目立体视觉(StereoVision)、结构光(StructuredLight)和直
接式飞行时间法(DirectTime-Of-Flight,D-TOF)在抗强环境光干扰、探测距离、
有效特征点量级、模组基线限制、系统集成度及成本上有一定的优势。所以在移
动终端、自动驾驶、工厂机器人、安防领域、虚拟现实(VirtualReality,VR)
对其有巨大的市场需求。
I-TOF 2D CMOS
由于 的像素结构与 成像的 传感器有所不同,且应用在高频
率调制光下,对像素性能要求较为苛刻,其像素好坏会很大程度地决定深度测量
的精度,因此需要不断改进工艺和迭代设计去进行优化像素。
本文基于SentaurusTCAD搭建的像素仿真平台上设计了一种相位式TOF深
度探测器的像素结构,对该像素进行工艺仿真和器件结构生成和器件仿真,分析
相位解调效果,并采用中芯国际 130nm1P4MCIS 工艺进行流片验证,经过流
片后的测试和结果分析,本文提出的这种I-TOF 像素结构可以正常实现深度探测
功能,验证了相位式飞行时间法在CIS 上的可行性。
针对目前标准工艺下的像素存在不足之处,对像素提出了三个优化方案并在
仿真平台上验证:
(1)两次N 型注入形成双N 掩埋层提高长波段的吸收效率。
(2)设计非均匀沟道掺杂,优化转移路径电势提高电荷转移效率和解调对
比度。
(3)设计深沟槽隔离减轻红外电学串扰。
与标准工艺的像素性能比对分析,仿真结果表明优化后的像素在长波段的吸
I
相位式TOF深度探测器的像素设计与优化
收效率提升了10%左右,解调对比度在40M、850nm 的红外调制光入射下提升
至26.09%,并且在4um 的深沟槽工艺下像素间的红外电学串扰下降了43.34%。
本文搭建的I-TOF像素仿真平台为今后进行I-TOF像素设计和工艺优化提供
一套较为高效的解决方案,并且提出的I-TOF 像素结构经过流片验证了其可实现
深度探测功能,然后针对目前标准工艺的不足提出了优化像素性能的三种工艺优
化方案,仿真结果证明本文所采取的优化能有效提升I-TOF 深度探测器的关键参
数,为后续进行工艺优化的流片打下坚实的基础。
关键词:3D成像; 相位式飞行时间法; 深度探测器; 像素性能; 调制对比度;
II
ThedesignandoptimizationofthepixelofIndirectTime-Of-FlightRangeImagers
Abstract
Over the past few years, Range imaging systems for three-dimensional vision
have become one of the most popular research directions in Smart CMOS Image
Sensors.EspeciallyafterApplereleasedtheiPhoneXwithStructuredLightfor3D
facemo
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