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- 2020-09-09 发布于江苏
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重庆大学硕士学位论文 中文摘要
摘 要
ZnO 是一种直接带隙的宽禁带半导体材料,具有优异的光电特性,其激子束
缚能高达60 meV,在短波长光电器件方面有着巨大的应用潜力。实现ZnO 在短波
长光电子器件中的应用,需要同时制备出高质量的n 型和p 型ZnO 。由于ZnO 存
在大量的本征缺陷以及杂质的自补偿效应,导致n 型ZnO 容易获得,而p 型ZnO
则难以实现。近几十年来,世界各国研究者将大量的精力投入到ZnO 的p 型掺杂
研究中,并取得了显著进展。然而,目前人们对p 型ZnO 的受主微观形态及其形
成过程,还没有清晰的认识,获得p 型ZnO 的导电性及稳定性也不能满足器件的
实际要求。
N 由于其离子半径及电负性与O 极为相近,被认为是实现p 型ZnO 最合适的
受主掺杂元素。本论文以N 掺杂ZnO 为研究对象,采用N 离子注入ZnO 薄膜/单
晶,并通过退火实现有关缺陷的调控,借助 XRD、Hall、Raman、XPS 、SIMS、
PL、EPR 等测试手段,研究N 离子注入及不同退火条件下ZnO 薄膜/单晶的微观
结构、导电特性、发光特性及N 在ZnO 中的掺杂浓度和掺杂形态,深入分析了N
掺杂ZnO 的p 型导电机制,取得了如下主要结果:
(1)采用快速退火工艺将 ZnO 薄膜分别在N2 、O2 和金属锌气氛下退火,结果
发现:ZnO 薄膜的载流子浓度在N2 中退火后无明显变化,在O2 中退火后降低了
一个量级,而在Zn 蒸汽气氛下退火后增加了两个量级;同时,结合光致发光(PL)
和电子顺磁共振(EPR)测试发现:锌空位(VZn)是 ZnO 薄膜的载流子的主要补偿缺
陷,而间隙锌(Zn )与氧空位(V )结合形成的复合缺陷是未掺杂ZnO 薄膜呈现n 型
i O
导电的主要施主来源。
(2)在N 气氛中对不同N 离子注入剂量的ZnO薄膜进行了不同温度的退火处理,
2
16 -2 o o
注入剂量为5×10 cm 的样品在850 C-900 C 的退火温度下实现了p型导电,当退火
o
温度为900 C时,N掺杂ZnO薄膜表现出最佳的p型导电性能,且在三个月后,空穴
浓度也无明显降低。借助Raman、XPS和低温PL等测试手段,探究了N 掺杂ZnO薄
膜的p型导电机制。实验结果表明,位于价带顶上方161 meV的浅受主能级归因于
V -N 受主复合体,退火过程中V -N 受主复合体的形成和Zn 相关的浅施主缺陷
Zn O Zn O i
的消除是N掺杂ZnO薄膜实现p型导电转变的原因。
16 -2
(3)在N2 气氛中对N 离子注入剂量为1×10 cm 的ZnO 单晶块体进行了不同
温度的退火处理。研究表明退火处理可以一定程度恢复由离子注入引起的晶格紊
乱,但N 在ZnO 中的浓度随着退火温度的升高而降低。与纯的ZnO 单晶块体相比,
退火处理后的样品的低温PL 光谱中出现位于3.105 eV 和3.220 eV 的两个主要的
I
重庆大学硕士学位论文 中文摘要
发光峰。前者归因于从导带到Zn 空位(VZn)受主能级的电子跃迁,而后者归因于施
主-受主对(DAP)的复合。实验结果表明,适当的退火处理可以诱导N 掺杂ZnO 材
料形成更多的有效受主(NO)和VZn 本征受主,VZn 与NO 的共同作用将导致ZnO 材
料导电类型的转变。
关键词:ZnO ;N 掺杂;离子注入;退火;p 型导电机制
II
重庆大学硕士学
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