下摆机精磨抛光实用工艺.pdfVIP

实用标准文案 文件名称 下摆机研磨工艺 制定时间 版次 第一版 作成 审核 批准 一、目的： 光学零件的抛光是获得光学表面最重要的工序。 1、去除精磨的破坏层达到规定的外观质量要求。 2、精修面形，达到图纸规定的曲率半径R 值，并满足零件光圈数N 及光圈局部 误差△N 的要求。 二、抛光机理： 认为抛光是精磨的继续，它们从本质上是相同的，都是尖硬的磨料颗粒对玻璃 表面进行微小切削作用的结果。但由于抛光是用很细颗粒的抛光剂。所以微小切削 作用可以在分子大小范围内进行。由于抛光模与镜片表面相当吻合，因此抛光时切 向力很大，从而使玻璃表面凸凹微痕结构被切削掉，逐渐形成光滑的表面。实验表 明抛光粉粒度在一定范围时，粒度