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光罩版制作工艺简介 铬版制作简介 05 04 03 02 01 掩膜版的分类 铬版原材结构 掩膜制作流程 品质特性与检验 铬版存放要求 铬版： （精度高、耐用、价格高） 干版 （精度适中、耐用性适中、价格适中） 菲林 （精度低、不耐用、价格低） 凸版（APR)版 （主要用来转移PI液等） 1、掩膜版的分类 2、铬版原材结构 从膜面看：表观看起来比较暗，呈深褐色 从非膜面（玻璃）看：表观看起来银亮色，可以清楚看清反射物体类似于镜子一样 光阻 氧化铬 铬 基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约700A的铬层，铬的下方还有一层由铬的氮化物或氧化物形成的薄膜其作用是增加铬与玻璃的粘附力。选择铬膜是因为它的沉积与刻蚀相对比较容易，而且对光线完全不透明。 铬版原材玻璃，依材质分类：苏打玻璃、石英玻璃、硼硅玻璃； 1. 硼硅玻璃，优点不突出，很少使用； 2. 石英玻璃的硬度、膨胀系数都远优于苏打玻璃，一般用在对 精度要求较高的产品上； 3、掩膜制作流程 掩膜版的图像形成流程 （除曝光外，其它与一般的黄光过程类似） 曝光过程： 掩膜版的曝光过程与一般产品的的曝光差异最大的地方，就是一般的曝光， 都是整版一次性完成；而掩膜版的精度要求非常高，需要使用激光束（或电 子束）逐行扫描的方式来完成，因此，曝光一片掩膜版，需要相当长时间。 4、品质特性与检验 ①、CD (CRITICAL DIMENSION) 指光照图形线宽大小一般CUSTOMER设计的图形1倍,光罩会因厂家STEPPER制程不 同有1X,4X,5X之相对图形。光罩厂依据CUSTOMER的需求提供正确之CD大小,并合 乎其要求的公差规格. ②、PATTERN/LAYOUT(图形与布局准确性) 光罩厂依据CUSTOMER的需求将其所提供资料的图形制作在光罩上需确认图形和布局是 否准确。 客户提供资料 光罩(图形正确) 光罩(图形不正确) 光罩(布局不正确) A A A A A A A A F F F F A A ③. DEFECT (缺陷) 除CUSTOMER原设计图形外，多出的部份及少的部份都成为不良。 一般铬膜光罩常有的缺陷如下： HARD DEFECT 制程中产生无法用清洗或吹拭清除,需以雷射或离子束修补机修补的缺陷 ?(1) OS(OPAQUE SPOT)铬残留:图形透明区（玻璃区)多余未理掉的铬金属残留。 ?(2) PH(PIN HOLE)針孔/铬膜脱落:图形黑区(铬膜区)铬膜脱落透光缺陷。 A SOFT DEFECT :制程或环境中产生的粉尘、脏污可用清洗或吹拭清除的异常。 B KILLING DEFECT :缺陷太大無无法修补或伤及玻璃造成內伤缺陷. C 5、铬版存放要求 铬版为硬掩膜版，为防止其变形，尽量竖直存放。为了保证掩膜版表面的洁 净度，一般要保存在1000 级以上的无尘室内，温度：20~26℃，湿度需维持在 40-60%RH 以内，静电电压控制在500 伏以内。 因为铬版的基材是玻璃，如果需要对铬版长期保存，则需要保持在干燥的环 境里，以防止玻璃出现发霉现象，影响光学性能。 为了尽可能地避免划、碰伤，影响寿命，使用时要轻拿轻放，曝光前必须对 光检查铬版表面是否有硬性颗粒，在曝光过程中也需要经常用净化后的压缩气体清 除铬版表面的玻璃碎片。使用完毕后，应将铬版表面重新清洗洁净，干燥后再保存。