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氯氟烃（CFCs）与空调制冷 氯氟烃物质与氟利昂物质 在氯氟烃物质（CFCs）已经限制生产并即将禁止使用的今天，人们常误把氯氟烃物质完全赞同于氟利昂物质。其实，氯氟烃物质是属于氟利昂物质中的一种，由于这种物质严重破坏大气臭氧层，故专门称之为氯氟烃物质，以区别于其他氟利昂物质。 氟利昂物质是饱和碳氢化合物（饱和烃）的卤族衍生物的总称，本世纪 30 年代开始用作制冷剂，它的出现解决了对制冷剂有各种要求的 问题 。根据饱和碳氢化合物是甲烷 （CH4）或乙烷（C2F6）的不同，氟利昂物质分为甲烷族与乙烷族，如图 1 和图 2 所示， 两者均可排为以氢（H）、氯（Cl）、氟（F）三元素为顶点的三角形，其中甲烷或乙烷中的氢部分或全部被氯、氟置换；按照氢元素被卤元素置换的情况，氟利昂物质可分为六种 ： 图 1 甲烷族氟利昂物质 图 2 乙烷族氟利昂物质 第一种是全氟代烃（PFC）即饱和碳氢化合物中的氢完全被氟置换，如 CF4 与 C2F6。它们不燃、无毒，极其稳定，即使进入大气平流层也不易分解，因而对臭氧层不产生 影响 。 第二种是氯氟烃（CFC），即饱和烃中的氢元素完全被氯元素和氟元素置换，如 R11、 R12、R13、R111、R112、R113、R114、R1115。它们极稳定。生存期长达几十年至上百年 ，穿越大气对流层进入平流层，受紫外线照射后产生对臭氧层有严重破坏作用的 Cl 和 ClO 。以R11（CFC-11，氟利昂 11）为例： 紫外线照射 CCl3F→CCl2F+ Cl Cl+O3→CCl O+ O2 Cl+O→Cl + O2 而且 Cl O +NO→NO2+ Cl 因此，一个氯离子由于连锁反应破坏上万个 O3 分子。 第三种氢氟烃（HFC），即饱和烃中的氢元素中只有一部分被氟元素置换的，如 R41、 R32、R23、R161、R152a、R 143a、R134a、R125。它们不可能分解产生氯原子，因而不破坏臭氧层。 第四种是氢氯氟烃（HCFC）即饱和烃中的氢元素部分被氯、氟置换，即图 1 和图 2 中去掉最外一层化合物后剩余的部分，甲烷族和乙烷族各有 3 种和 10 种。由于这类物质相对不稳定，在到达平流层前已经分解，因此对臭氧层的破坏作用较小。 第五种氢氯烃（HCC），即饱和烃中的氢元素部分被氯元素置换。第六种是全氯代烃（PCC），如 R10、R110，它们具有强毒性。 再者，由图 2 可见，在乙烷氟利昂物质中，存在 a，b 等异性体，如 R134a、R142b 等 。所谓异性体是指分子式相同但性质不同的化合物，根据碳原子与氯、氟、氢等元素结合的平衡程度排列，b 的不平衡程度低于 a。 至于氟利昂物质中，氯元素被溴元素置换后，称为哈龙。例如：R12B1（哈龙 1211， 分子式为 CClBrF2），R13Bl（哈龙 1301，分子式为 CBrF3）等。主要用于灭火，对大气臭氧层有严重破坏作用。 氯氟烃是破坏平流层中臭氧层的主要因素之一。同时，氯氟烃和其他氟利昂物质还是造成全球性温室效应的因素之一。表 1 给出部分氯氟烃物质和其他氟利昂物质造成臭氧层耗减和温室效应的指标。 表 1 氯氟烃制冷系统的替代 为了保护臭氧层，控制氯氟烃制冷剂的使用，人们从两个途径探索解决，即：寻求合宜的替代制冷剂和采用其他制冷 方法 。 就其他制冷方式来说，有吸收式制冷、斯特林循环制冷、热电制冷和磁制冷等。其中热电制冷可用于小型制冷装置、但由于半导体材料始终没有突出进展，故效率很低，且造价高。磁制冷机 目前 用于超低温制冷，而常温磁制冷尚处理研究阶段，且不宜作为空调冷源。至于斯特林制冷机，虽然目前尚仅用于准备间红外一观测的低温冷却，但被认为是有发展前途的制冷循环。斯特林制冷机 理论 上是由两个等温过程和两个等容过程组成的定容回热气体制冷循环。其优点是构造简单，理论效率高。但是为了防止润滑密封对工质的污染，目前采用无润滑密封，因此，提高制冷机的寿命和可靠性以及蓄冷器的研究均是非常重要的课题。这样，只有吸收式制冷是当前可以采用的、有前途的制冷机，目前正在开发研制的三效溴化锂吸收式冷水机的性能系数可达 1.5，颇具竞争能力。关于这方面的问题就不多作论述，下面仅就替代制冷剂进行讨论。 替代制冷剂应满足以下三方面基本要求： 对环境安全。最近国际专家会议讨论认为，要恢复环境安全，所选用的替代工质的臭氧耗减潜能 ODP 值必须小于 0.1，全球变暖潜能 GWP 值相对于 CFC-12 来说必须很小。 具有良好的热力性能。压力适中，制冷效率（即理论制冷循环制冷系数与逆卡诺循环制冷系数之比）高，并且与润滑油有良好的亲合性。 具有可行性。除易于大规模 工业 化生产、价格可被接受外，制冷剂的毒性必须符合职业卫生要求，即人们每天 8 小时长期在含有替代物质的空气中