新森大道(凤湖路至高龙大道)道路工程结构计算书.docVIP

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  • 2020-11-13 发布于天津
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新森大道(凤湖路至高龙大道)道路工程结构计算书.doc

PAGE 1 新森大道(凤湖路至高龙大道)道路工程 结构计算书 编号: 1 设计依据 1.1《新森大道(凤湖路至高龙大道)道路工程工程地质勘察报告》(重庆川东南工程勘察设计院有限公司2020年9月编制); 1.2建设方与我院签订的《新森大道(凤湖路至高龙大道)道路工程》设计合同; 1.3 建设方提供的相关区域的规划、红线、道路、建筑基础资料。 1.4 设计采用的规范标准 1)《城市道路路基设计规范》CJJ194-2013; 2)《建筑边坡工程技术规范》(GB50330-2013); 3)《建筑边坡工程施工质量验收规范》(GB/T51351-2019); 4)《铁路路基支挡结构设计规范》(TB10025-2019); 5)《建筑结构荷载规范》(GB50009-2012); 6)《混凝土结构设计规范》(GB50010-2010) (2015年版); 7)《建筑抗震设计规范》(GB50011-2010) (2016年版);; 8)《建筑地基基础设计规范》(GB50007-2011); 9)《建筑地基处理技术规范》JGJ79-2012; 10)《砌体结构设计规范》(GB50003-2011); 11)《岩土锚杆(索)技术规程》CECS22:2005; 12)《岩土锚杆与喷射混凝土支护工程技术规范》GB50086-2015。 2.1 边坡概况 共七段边坡、两段基坑需要支护。 编号 长度(m) 高度(m) 边坡面积(m2) 边坡性质 不利裂缝 边坡类型 1 200 12.7-29.3 6300 岩土质边坡 反向坡 J1 Ⅲ、边坡 2 210 10.4-32.3 6725 岩土质边坡 反向坡 J1 Ⅲ、边坡 3 210 9.8-32.5 6 岩土质边坡 顺向坡 无 Ⅲ、边坡 4 100 2.5-10 569 土质边坡 边坡 5 100 2.5-10 569 土质边坡 边坡 6 220 2.5-15 2016 土质边坡 边坡 7 220 2.5-15 2059 土质边坡 边坡 8 430 8.4-20.1 7965 岩质、质土质、土质 反向坡 基坑 9 430 6.3-13.5 5535 岩质、质土质、土质 顺向坡 基坑 2.2 边坡安全等级为一级,基坑安全等级为一级, 2.3本工程设计使用年限为:边坡设计使用年限50年;基坑设计使用年限2年; 2.4本工程抗震设防烈度为6度,设计基本地震加速度0.05g。 3.工程地质条件 3.1交通位置 场地位于重庆高新区金凤电子信息产业园,有公路通向场区,交通方便。 3.2气象、水文 重庆地区属亚热带湿润季风气候,具有冬暖春早、夏热秋凉,气候温和,雨量充沛,空气湿度大、云雾多,日照较少的气候特点,常年平均气温18.3℃,最热月(8月),极端最高气温44.3℃(2006年8月15日),最冷月(1月),极端最低气温-1.8℃(1925年12月15日)。年平均相对湿度80%,年平均降雨量1185mm,多年最大年降雨量1990.0mm,多年最大日降雨量约120.0mm,多年最小年降雨量783.2mm,降雨主要集中在5~9月,约占全年降雨量的70%,且常有雷阵暴雨。多年平均蒸发量1138mm。春冬多雾,雾日最长达148天。因大气污染,时有酸雨、酸雾发生。常年风速较小,年平均风速1.1m/s,最大风速28.4m/s,以偏西北风为主。场区气候全年可施工作业。 经调查路线经过地段场地属浅丘斜坡地貌,地形坡角为5~45°,局部为陡坡、陡坎,多为农田耕地,局部农田中存在积水,施工时将被疏干。场地内有2个鱼塘,道路施工时,鱼塘将被废除,对道路建设影响小。无其它地表水体。 3.3地形地貌 拟建场地原始地形属浅丘地貌,目前以农田和耕地为主,东侧局部有浅丘存在,地形坡角一般0°~5°,局部20~30°(浅丘处)。场地地形总体中部高,南北两侧低,最大高程392.47m,最小高程332.26m,最大高差约60.21m。 3.4地质构造 场地位于北碚向斜西翼,岩层呈单斜构造产出。岩层产状91°∠9°,场区无断层通过,基岩由侏罗系中统的沙溪庙组组成。根据场地北侧调查,岩体中主要见二组裂隙: L1产状:248°∠66°,裂面平直,张开0~10mm,局部泥质充填,间距0.5~2m,延伸2~5m,结合很差。 L2产状:350°∠72°,裂面平直,张开0~10mm,局部泥质充填,间距2~5m,延伸长度2~3m,结合很差。 区内及邻近地段未发现断层。综合分析,场地岩体裂隙不发育。 38—观音峡冲断背斜 41—北碚向斜 42—温塘峡背斜 43—璧山向斜 图3.1 勘察区区域构造纲要图 岩层层面为砂泥岩交界面及砂泥岩内部胶结面,根据现场开挖过的基岩露头调查,且钻探岩芯有沿砂泥岩交界面分离的现象,部分交界面充填粘

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