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电科《集成电路原理》期末考试试卷
一、填空题
1.(1?分) 年,第一次观测到了具有放大作用的晶体管。
2 . ( 2 分 ) 摩 尔 定 律 是
指 。
3. 集 成 电 路 按 工 作 原 理 来 分 可 分
为 、 、 。
4.(4?分)光刻的工艺过程有底膜处理、涂胶、前烘、 、 、 、 和
去胶。
5. ( 4 分 ) MOSFET 可 以 分
为 、 、 、
四种基本类型。
6.(3?分)影响?MOSFET?阈值电压的因素有: 、
以及 。
V V7.(2?分)在?CMOS?反相器中,?, 分别作为?PMOS?和?NMOS?的 和 ;
V V
in out
为?PMOS?的源极和体端, 作为?NMOS?的源极和体端。
8.(2?分)CMOS?逻辑电路的功耗可以分为 和 。
9.(3?分)下图的传输门阵列中?V
DD
??5V?,各管的阈值电压?V???1V?,电路中各节点的
T
Y初始电压为?0,如果不考虑衬偏效应,则各输出节点的输出电压?Y?= V,?= V,
Y
1 2
Y?= V。
3
VDD
Y1
Y2
Y3
10.(6?分)写出下列电路输出信号的逻辑表达式:Y?= ;Y?= ;
1 2
Y?= 。
3
DDV
DD
C B
A?A
VDD
MP1
VDD
Y1????????????????????????????????????????
Y1???????????????????????????????????????? Y3
B??????????????????????????????? Y2
D
D
MP2
V1?V2
A?M1
B?????????M2?????????M3??????M4
C
B A
?
MN1
MN2
二、画图题:(共?12?分)
1.(6?分)画出由静态?CMOS?电路实现逻辑关系?Y???ABD???CD?的电路图,要求使用的
MOS?管最少。
2.(6?分)用动态电路级联实现逻辑功能?Y???ABC?,画出其相应的电路图。
三、简答题:(每小题?5?分,共?20?分)
1.简单说明?n?阱?CMOS?的制作工艺流程,n?阱的作用是什么?
2.场区氧化的作用是什么,采用?LOCOS?工艺有什么缺点,更好的隔离方法是什么?
3.简述静态?CMOS?电路的优点。
4.简述动态电路的优点和存在的问题。
四、分析设计题:(共?38?分
1.(12?分)考虑标准?0.13???m?CMOS?工艺下?NMOS?管,宽长比为?W/L=?0.26?m?/?0.13?m?,
栅氧厚度为?t???2.6nm?,室温下电子迁移率?????220cm?2?/?V?s?,阈值电压?V?=0.3V,计
ox n T
算?V
GS
??1.0?V、V
DS
???0.3?V?和?0.9V?时?I?的大小。已知:????8.85??10?14?F?/?cm?,
?
D?o
ox
??3.9?。
2.(12?分)如图所示,M1?和?M2?两管串联,且?V???V???V???V?,请问:
B G T A
1)?若都是?NMOS,它们各工作在什么状态?
2)?若都是?PMOS,它们各工作在什么状态?
3)?证明两管串联的等效导电因子是?K
eff???K1K?2?/(?K1???K?2?)?。
3.(14?分)设计一个?CMOS?反相器,要求在驱动?10fF?外部负载电容的情况下,输出
上升时间和下降时间都不能大于 40ps,并要求最大噪声容限不小于 0.55V。针对
0.13???m?工艺,已知:V
TN
??0.30V?,?V????0.28V?,?????220cm?2?/?V?s?,????76cm2?/?V?s?,
TP?n?p
t???2.6nm?,????8.85??10?14?F?/?cm?,?
ox o
ox
??3.9?,V
DD
??1.2V?,ln14.33=2.66,ln14=2.64。
《集成电路原理》期末考试试卷?参考答案
一、填空题:(共?30?分)
1.(1?分)1947
2.(2?分)集成电路中的晶体管数目(也就是集成度)大约每?18?个月翻一番
3.(3?分)数字集成电路,模拟集成电路,数模混合集成电路
4.(4?分)曝光,显影,坚膜,刻蚀
5.(4?分)增强型?NMOS,耗尽型?NMOS,增强型?PMOS,耗尽型?PMOS
6.(3?分)栅电极材料,栅氧化层的质量和厚度,衬底掺杂浓度
7.(2?分)栅极,漏极,VDD,GND
8.(2?分)动态功耗,静态功耗
9.(3?分)4,3,2
10.(6?分)?(?A???B)C???D?,?AB???AB?,?AB???C
二、画图题:(共?12?分)
1.(6
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