薄膜光学技术-4-1教程文件.pptVIP

薄膜光学技术-4-1;蒸气入射角与柱状结构的生长方向之间的关系：;热蒸发制备的薄膜柱状结构照片;4.2 影响膜层质量的工艺要素;工艺参数对薄膜性能的影响;4.2.1 影响膜层质量的工艺要素及作用机理;2.沉积速率（蒸发速率）; 基底温度是膜层生长的重要条件之一。它对膜层原子或分子提供额外能量补充，对膜层结构、凝聚系数、膨胀系数和聚集密度起着重要的作用。宏观反映在膜层折射率、散射、应力、附着力、硬度和不溶性都会因基片温度的不同而有较大差异。; 1). 镀前轰击：使基片表面因离子???射剥离而再清洁和电活化，提高膜层在基片表面的凝聚系数和附着力； 2).镀中和镀后轰击：提高膜层的聚集密度，促进化学反应，使氧化物膜层的透过率增加，折射率提高，硬度和抗激光损伤阈值提高。;残留在基片表面的污物和清洁剂将导致： 1）. 膜层对基片的附着力差； 2）. 散射吸收增大抗激光损伤能力差； 3）. 透光性能变差。;9.蒸气入射角 影响膜层的生长结构和聚集密度。对膜层的折射率和散射性能有较大影响。一般应限制在30°之内。;综合分析结果;主要工艺因素对薄膜性质的影响 ;4.2.2.提高膜层机械强度的工艺途径;③基片温度。提高基片温度有利于将吸附在基片表面的剩余气体分子排除，增加基片与沉积分子之间的结合力；但基片温度过高会造成膜层变质。 ④离子轰击。蒸镀前的轰击可