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CVD简介及其在制备纳米材料方面的应用;报告的主要内容;;2.CVD中所应用的化学反应;几个CVD反应的例子;3.CVD反应的装置;砷华镓气相外延装置示意图;4.沉积参数对沉积层质量的影响;(1) 反应混合物的供应
(2) 沉积温度
(3) 衬底材料
(4)系统内总压和气体总流速
(5)反应系统装置的因素;衬底材料的选择;5.气-液-固(VLS)生长机制;示例; VLS生长的真正机理,目前仍未完全弄清楚,原则上下面的各个步骤都可以影响VLS生长的控制步骤;气相中的质量输运;气液界面上的表面化学反应;液相中的扩散和液固界面上的表面反应。一系列研究表明液固和气液界面上的现象都可以成为VLS过程的控制步骤,并且生长速率又依赖于晶须的直径和晶须生长过程的化学反应动力学。VLS过程只所以能够加速晶须生长其主要原因是由于改变了这些活化过程的活化能垒。
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